菁薄膜材料制备原理技术及应用 pdf epub mobi txt 电子书下载 2026

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出版者:冶金工业出版社

作者:

出品人:

页数:232

译者:

出版时间:1999-10

价格:18.00元

装帧:平装

isbn号码:9787502421519

丛书系列:

图书标签:

薄膜材料
菁胺
有机薄膜
材料科学
制备技术
应用
有机电子
半导体
光电材料
器件物理

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具体描述

本书以薄膜材料为中心，系统地讨论了薄膜技

术中常用的真空技术基础知识、各种物理和化学气

相沉积技术和方法、薄膜材料的形核及生长理论、

薄膜材料微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微

观结构和成分的表征方法等。在此基础上，本书还

有选择性地讨论了薄膜材料在力学、光电子学、磁

学等领域的典型应用实例，其中涉及的领域包括各

种机械防护性涂层、金刚石膜、光电子器件、集成

光学器件、磁记录及光记录介质材料等。

本书可作为高等学校材料、物理及相关专业的

本科生、研究生及教师的教学参考书，也可供从事

薄膜材料的制备、生产、研究的工程技术人员参考

使用。

好的，这是一本关于《高分子材料的流变学行为与加工性能》的图书简介。 --- 《高分子材料的流变学行为与加工性能》本书概述：本书深入探讨了高分子材料在熔融、溶液和固态下，特别是加工过程中所展现出的流变学特性，并系统阐述了这些特性如何影响材料的成型、加工和最终制品的性能。本书旨在为高分子材料工程师、研发人员、设备操作者以及相关专业学生提供一个全面、深入且实用的知识框架，用以理解、预测和优化聚合物的加工过程。核心内容详解：第一部分：高分子流变学基础理论本部分构建了理解高分子流变行为的理论基石。首先，详细介绍了流变学的基本概念，包括剪切应力、剪切速率、粘度、屈服应力等关键参数的定义及其在聚合物加工中的物理意义。重点讲解了牛顿流体与非牛顿流体的区别，并着重分析了高分子熔体普遍表现出的非牛顿特性，如剪切稀化、粘度随剪切速率的显著依赖性。随后，本书深入探讨了分子动力学视角下的高分子流变。通过介绍聚合物链的拓扑结构、分子量分布（MWD）对宏观流变性能的影响，阐释了长链缠结、链段运动和分子间作用力如何共同决定材料的粘弹性行为。本书详细介绍了经典的本构方程，如幂律模型、Cross模型、Carreau模型等，并提供了实际应用中的参数获取方法和模型选择标准。粘弹性理论是本部分的核心内容之一。我们详细阐述了线粘弹性与非线粘弹性的区别，引入了松弛时间和蠕变柔量等概念，并使用Maxwell模型、Voigt模型等经典模型来描述材料的时间依赖性响应。此外，还专门章节讨论了动态力学分析（DMA）在表征高分子材料粘弹性能中的应用，包括储能模量（$G'$）和损耗模量（$G''$）的测量与解析。第二部分：熔融态高分子的加工流变学高分子加工过程通常在熔融状态下进行，因此本部分聚焦于熔体在不同剪切和拉伸场中的行为。挤出流变：详细分析了螺杆挤出过程中剪切速率的分布、温度对粘度的影响以及聚合物熔体在挤出机中的流动模式。重点讨论了熔体泵、机头设计、模具膨胀（Die Swell）和唇口振荡等关键现象的流变学机制。对于熔体失稳问题，如鲨鱼皮现象（Sharkskin）和颤振（Melt Fracture），本书从分子链松弛和界面相互作用的角度进行了深入剖析，并提出了通过添加剂或工艺参数调控的解决方案。注射成型流变：详细模拟了注射成型周期中熔体流动的复杂性。讨论了浇口、流道和型腔内的剪切速率梯度和温度梯度。特别关注了纤维增强复合材料（FRP）在流动中的取向行为，以及剪切诱导的纤维取向如何影响最终制品的力学性能和各向异性。此外，浇注前端（Melt Front）的流动特性及其对气泡卷入和界面粘接的影响也被系统性地探讨。吹塑与压延流变：对于吹塑成型，本书分析了薄膜或型坯在拉伸和吹胀过程中的拉伸粘度，并结合了粘弹性拉伸理论来预测壁厚分布。在压延工艺中，重点研究了辊间剪切变形和拉伸应变速率对薄片均匀性的控制。第三部分：高分子溶液与分散体系的流变行为本部分将研究重点扩展至高分子溶液和由高分子基体构成的复杂分散体系。聚合物溶液：阐述了稀溶液、半稀溶液和浓溶液状态下的特性粘度。讨论了高分子链在溶剂中膨胀、卷曲及缠结的临界浓度的确定，以及溶剂极性、温度和剪切速率对溶液粘度的影响。复合材料与填料效应：系统分析了无机填料、纳米粒子或纤维等分散相加入到聚合物基体后对宏观流变性能的增强或改变作用。引入了经典的复合材料模型（如Kerner模型、Halpin-Tsai模型）来预测复合材料的粘度。重点讨论了纳米填料（如碳纳米管、石墨烯）在基体中分散状态与流变学“剪切增稠”或“触变”行为之间的联系。第四部分：流变学在材料性能控制中的应用本部分着重于如何利用流变学数据指导材料设计和质量控制。结构-性能关联：建立了从分子结构（如支化度、共轭结构）到宏观流变行为，再到最终机械性能和老化性能的联系链条。例如，如何通过控制分子量分布来优化材料的抗蠕变性能或抗应力开裂能力。在线检测与质量控制：介绍了熔流指数（MFI）测试、毛细管流变仪和振荡流变仪等常用实验设备的操作原理和数据解读方法。探讨了如何利用在线流变监测技术实时反馈和调整挤出或注塑过程中的工艺参数，确保产品批次间的一致性。热塑性弹性体与超支化聚合物：对这类特殊结构聚合物的流变特性进行了专题讨论，包括其独特的松弛机制和在增塑、交联过程中的粘度变化规律。结论与展望：《高分子材料的流变学行为与加工性能》不仅提供了坚实的理论基础，更侧重于将这些原理应用于解决实际工程问题。本书通过大量的案例分析和图表数据，使读者能够掌握从实验室表征到工业化生产全流程的流变学控制技术，是高分子科学与工程领域不可或缺的工具书。

作者简介

目录信息

目录
前言
1薄膜制备的真空技术基础
1.1气体分子运动论的基本概念
1.1.1气体分子的运动速度及其分布
1.1.2气体的压力和气体分子的平均自由程
1.1.3单位面积上气体分子的碰撞频率
1.2气体的流动状态和真空的获得
1.2.1气体的流动状态
1.2.2气体管路的流导
1.2.3真空抽速
1.3真空泵简介
1.3.1旋转式机械泵
1.3.2罗茨真空泵
1.3.3油扩散泵
1.3.4涡轮分子泵
1.3.5低温吸附泵
1.3.6溅射离子泵
1.4真空的测量
1.4.1热偶真空规和皮拉尼真空规
1.4.2电离真空规
1.4.3薄膜真空规
2薄膜的物理气相沉积（I）――蒸发法
2.1物质的热蒸发
2.1.1物质的蒸发速度
2.1.2元素的蒸气压
2.1.3化合物和合金的蒸发
2.2薄膜沉积的厚度均匀性和纯度
2.2.1薄膜沉积的方向性和阴影效应
2.2.2蒸发沉积薄膜的纯度
2.3真空蒸发装置
2.3.1电阻式加热装置
2.3.2电子束加热装置
2.3.3电弧加热装置
2.3.4激光加热装置
3薄膜的物理气相沉积（II）――溅射法及其他PVD方法
3.1辉光放电与等离子体
3.1.1气体辉光放电的物理基础
3.1.2辉光放电中的碰撞过程
3.2物质的溅射现象
3.2.1溅射产额
3.2.2合金的溅射和沉积
3.3溅射沉积装置
3.3.1直流溅射
3.3.2射频溅射
3.3.3磁控溅射
3.3.4反应溅射
3.3.5偏压溅射
3.4其他物理气相沉积方法
3.4.1离子镀
3.4.2反应蒸发沉积
3.4.3离子束辅助沉积
3.4.4离化原子团束沉积
4薄膜的化学气相沉积
4.1化学气相沉积所涉及的化学反应类型
4.1.1热解反应
4.1.2还原反应
4.1.3氧化反应
4.1.4化合反应
4.1.5岐化反应
4.1.6可逆反应
4.1.7气相输运
4.2化学气相沉积过程的热力学
4.2.1化学反应的自由能变化
4.2.2化学反应的速度
4.2.3化学反应路线与由能变化
4.2.4化学反应平衡的计算
4.3气体的输运特性
4.3.1流动气体的边界层及影响因素
4.3.2扩散与对流
4.4薄膜生长动力学
4.4.1生长速度的一致性
4.4.2温度对沉积速度的影响
4.5化学气相沉积装置
4.5.1高温和低温CVD装置
4.5.2低压CVD装置
4.5.3等离子体增强CVD装置
4.5.4激光辅助CVD装置
4.5.5金属有机化合物CVD装置
5薄膜的生长过程和薄膜结构
5.1薄膜生长过程概述
5.2新相的自发形核理论
5.3薄膜的非自发形核模型
5.3.1非自发形核过程的热力学
5.3.2薄膜的形核率
5.3.3村底温度和沉积速率对形核过程的影响
5.4连续薄膜的形成
5.4.1奥斯瓦尔多吞并过程
5.4.2熔结过程
5.4.3原子团的迁移
5.5薄膜生长过程与薄膜结构
5.5.1薄膜生长的晶带模型
5.5.2纤维状生长模型
5.6非晶薄膜
5.7薄膜的外延生长
5.7.1点阵失配与外延缺陷
5.7.2半导体的外延生长方法
5.8薄膜生长过程的实际模拟
5.9薄膜中的应力和薄膜的附着力
5.9.1薄膜中应力的测量
5.9.2热应力和生长应力
5.9.3薄膜界面形态和界面附着力
6薄膜材料的表征方法
6.1薄膜厚度测量技术
6.1.1薄膜厚度的光学测量方法
6.1.2薄膜厚度的机械测量方法
6.2薄膜结构的表征方法
6.2.1扫描电子显微镜
6.2.2透射电子显微镜
6.2.3X射线衍射方法
6.2.4低能电子衍射和反射式高能电子衍射
6.3薄膜成分的表征方法
6.3.1原子内的电子激发及相应的能量过程
6.3.2X射线能量色散谱
6.3.3俄歇电子能谱
6.3.4X射线光电子能谱
6.3.5卢瑟福背散射技术
6.3.6二次离子质谱
7薄膜材料及其应用
7.1耐磨及表面防护涂层
7.1.1硬质涂层
7.1.2热防护涂层
7.1.3防腐涂层
7.2金刚石薄膜
7.2.1金刚石薄膜的制备技术
7.2.2金刚石薄膜的应用
7.3集成电路及能带工程
7.3.1集成电路制造技术
7.3.2发光二极管和异质结激光器
7.3.3超晶格、量子阱和能带工程
7.4集成光学器件
7.4.1集成光波导和光学器件
7.4.2集成光学器件材料
7.5磁记录薄膜和光存储薄膜
7.5.1复合磁头和薄膜磁头
7.5.2磁记录介质薄膜及其制造技术
7.5.3光存储介质概况
7.5.4磁光存储
7.5.5相变光存储
参考文献
· · · · · · (收起)

读后感

评分☆☆☆☆☆

用户评价

评分☆☆☆☆☆

从实用性的角度来看，这本书简直就是一本可以放在实验台边的工具书。它不仅仅停留在理论层面，更融入了大量实操层面的考量。作者在描述完某个制备流程后，往往会附带一个“操作要点提示”或“常见问题与解决策略”的小节，这些内容极其接地气，充满了“过来人”的智慧。例如，如何精确控制真空度、如何避免薄膜沉积过程中的针孔缺陷等，这些都是实际操作中经常遇到的‘拦路虎’，而这本书对此提供了切实可行的应对方案。这本书的价值不在于它提供了多少新奇的知识点，而在于它系统性地梳理了从理论到实践的每一个关键环节，使得即便是新手也能在它的指引下，少走许多弯路，安全、高效地迈向成功制备的目标。

评分☆☆☆☆☆

这本书的装帧设计真是没得说，拿到手上就感觉很有分量，封面设计走的是那种简约大气的高级感，拿在手里沉甸甸的，让人对手里的知识充满了期待。内页的纸张质感也相当不错，印刷清晰，字里行间都透着一股严谨的气息。我个人对这种专业书籍的实体感比较看重，因为它不仅仅是知识的载体，更像是作者与读者之间的一种连接仪式。那种油墨散发出的特殊气味，配合着书页翻动的沙沙声，是电子阅读永远无法替代的体验。拿到这本书的时候，我正准备深入研究一下材料科学领域的一些前沿进展，这本书的厚度和内容深度给了我很大的信心，感觉像是一个可靠的向导站在我面前，准备带领我进入一个全新的知识世界。从书脊的设计到封底的排版，每一个细节都透露出出版方对这本书的重视程度，这对于一本专业技术书籍来说至关重要，因为它预示着内容的权威性和专业性。

评分☆☆☆☆☆

这本书的目录结构编排得非常巧妙，它并没有采用那种简单粗暴的堆砌式布局，而是像搭积木一样，层层递进，逻辑性极强。从基础理论的阐述，到具体制备工艺的详述，再到实际应用案例的分析，整个脉络梳理得井井有条，让人可以非常顺畅地跟着作者的思路走。我尤其欣赏它在关键概念解析上的细致程度，即便是初次接触这个领域的读者，也能通过循序渐进的解释理解其核心要义，而不是一上来就被晦涩的术语淹没。这种编排方式极大地降低了学习的陡峭曲线，使得知识的吸收过程变得更加高效和愉悦。每当遇到一个复杂的技术点时，我总能发现作者已经预设好了下一步的解释，这种‘知我者，书也’的感觉，在技术书籍中是难得的体验。

评分☆☆☆☆☆

阅读这本书的过程，与其说是学习，不如说是一场与行业内顶尖专家的深度对话。作者在行文过程中展现出的那种深厚的学术功底和丰富的实践经验，是通过任何简短的摘要或概述都无法传达的。他不仅仅是在陈述“是什么”，更着重于剖析“为什么会是这样”，以及“如何才能做得更好”这样的深层问题。那种对实验细节的把握，对参数波动的敏感性，以及对潜在技术瓶颈的预见性，都让我深感敬佩。特别是在涉及到一些前沿的制备技术时，作者引用了大量的最新研究成果，并进行了独到的归纳和总结，这使得这本书的理论前沿性和指导性都达到了非常高的水准。读完某个章节后，我总会停下来，仿佛能感受到作者在实验室里反复试验、推敲细节时的那种专注与执着。

评分☆☆☆☆☆

这本书的插图和图表设计水平，绝对是行业内的标杆。坦白说，很多技术书籍的图表做得非常简陋，要么是扫描质量极差的旧图，要么是信息密度过高、逻辑混乱的示意图。然而，这本书中的每一个示意图、流程图乃至数据曲线，都经过了精心绘制和优化，信息传达效率极高。复杂的物理化学过程通过精美的三维渲染图得以清晰展现，让人一目了然。我尤其欣赏那些对比图，它们用最直观的方式展示了不同制备条件对最终材料性能的影响差异，这种视觉化的辅助远胜于千言万语的文字描述。对于需要进行实验验证和参数优化的科研工作者来说，这些高质量的图表本身就是极具价值的参考资料，节省了大量的想象和重构时间。

评分☆☆☆☆☆