建筑工程材料检测

建筑工程材料检测 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:机械工业
作者:白燕
出品人:
页数:162
译者:
出版时间:2006-8
价格:16.00元
装帧:
isbn号码:9787111195948
丛书系列:
图书标签:
  • 111111111111
  • 建筑工程
  • 材料检测
  • 建筑材料
  • 工程质量
  • 检测技术
  • 质量控制
  • 施工验收
  • 规范标准
  • 试验方法
  • 建筑科学
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具体描述

本教材是按《中等职业学校建设行业技能型紧缺人才培养培训指导方案》中的主干课程“建筑工程材料检测”的教学基本要求,同时参照建筑工程质量控制岗位人员资格要求编写的建筑类中等职业教育国家推荐教材。

主要内容包括:检测管理及基础知识;建筑用砂、石、水泥、粉煤灰、外加剂的性能检测;建筑用钢材、沥青及防水材料性能检测;混凝土、砂浆配合比计算、调整;混凝土拌合物性能检测;混凝土力学性能检测;建筑材料现场检查、验收与控制。

本教材在编写过程中本着“必需、够用”的原则,结合了试验工程岗位的要求标准,有很强的实用性。在内容上力求将新的检测标准、检测方法、评定标准及检测注意事项贯穿其中,并配备相关的检测训练项目,注重学生动手操作技能的培养,授课时可采用项目教学法进行。

本教材可作为中等职业学校建筑(市政)施工专业材料检测教材,也可作为相关专业岗位培训教材或参考书。

精装学术专著:《现代光电材料的界面工程与性能调控》 内容提要: 本书深入探讨了现代光电材料体系中,材料界面结构、界面化学及其与宏观光电器件性能之间复杂耦合关系的微观机理。全书聚焦于有机-无机杂化钙钛矿、二维(2D)材料及其异质结、以及先进半导体薄膜这三大前沿领域。不同于传统的材料成分和晶体结构分析,本书的核心价值在于解析界面态的形成机制、界面能垒的精确调控,以及界面缺陷如何影响载流子的传输与复合效率。 第一章:光电材料界面的基础理论与表征技术 本章首先回顾了固态物理学中关于界面能带弯曲、肖特基势垒形成的基本理论模型,并引入了非平衡态热力学在分析光电转换过程中的应用。重点解析了界面能的计算方法,特别是密度泛函理论(DFT)在预测界面结合能和电荷转移特性中的局限性与修正策略。 在实验表征方面,本章详细阐述了当前用于界面分析的最尖端技术: 1. 高空间分辨率的X射线光电子能谱(HAXPES/ARPES): 专注于如何通过深度分辨谱图获取不同深度处的元素价态和化学环境变化,尤其是在金属/半导体界面处的氧化态演化。 2. 扫描隧道显微镜/谱学(STM/STS): 重点介绍如何利用尖端技术对亚纳米尺度的界面缺陷态密度(DOS)进行精确扫描和能级定位。 3. 透射电子显微镜(TEM/STEM)的高级应用: 阐述如何通过同步辐射光源结合球差校正STEM,实现对界面原子排列、晶格失配的原子尺度成像,并结合EELS(电子能量损失谱)分析界面处的电子结构激发态。 第二章:钙钛矿太阳能电池中的界面缺陷与钝化策略 钙钛矿材料因其优异的光吸收特性和高载流子迁移率而备受关注,然而,其表层和晶界处的缺陷是制约器件长期稳定性的主要瓶颈。本章聚焦于这些界面的“非理想性”及其对光电性能的影响。 具体内容包括: 碘空位与铅离子配位缺陷的界面富集: 分析了在器件制备过程中,由于溶剂残留或热应力导致界面相分离和缺陷聚集的动力学过程。 界面电荷抽取层(ETL/HTL)的匹配问题: 深入讨论了电子传输层(如TiO2, SnO2)与钙钛矿吸收层之间的能级错位如何形成反向势垒,阻碍高效抽取。 新型钝化剂的设计原理: 详细剖析了有机胺类、大分子螯合剂以及无机分子(如烷基铵盐、磷酸盐)在界面处的吸附位点、空间位阻效应及其对缺陷态的有效饱和机制。本章特别引用了多组分钙钛矿体系中,钝化剂如何诱导晶体表层结构重构的案例研究。 第三章:二维材料异质结中的层间耦合与能带调控 二维材料(如MoS2, WSe2, 石墨烯)的层状结构使其具备独特的面内(in-plane)和面外(out-of-plane)各向异性,为设计新型光电器件提供了平台。本章的核心在于理解两层或多层二维材料堆叠后形成的异质结的物理特性。 研究内容包括: 范德华异质结的能带排列: 区分I型、II型和III型异质结的形成条件,重点分析扭转角(Twist Angle)对Moiré超晶格和带隙结构的影响。 电荷分离与界面激子动力学: 阐述在II型异质结中,载流子如何快速分离到不同层,以及在极薄层结构中激子寿命和界面复合率的变化规律。 垂直异质结中的电场调控: 探讨通过外加电场或掺杂方式,在垂直堆叠结构中诱导内部建面电场,以增强载流子分离效率的工程化方法。本章对基于异质结的超快光电探测器设计原理进行了详尽论述。 第四章:先进薄膜沉积中的界面控制与薄膜形貌演化 光电材料的性能高度依赖于薄膜的结晶质量和表面平整度。本章侧重于薄膜生长过程的动力学控制,特别是针对化学气相沉积(CVD)和脉冲激光沉积(PLD)技术在界面处的应用。 主要议题包括: 成核与生长模式的界面依赖性: 分析了在不同衬底表面(如蓝宝石、硅片)上,有机或无机前驱体在初始阶段的吸附、扩散和三维岛状生长向二维层状生长的转变机制。 应力弛豫与界面应变工程: 讨论了由于晶格常数失配导致的界面应力积累,以及如何通过控制生长温度、反应气体分压,诱导应变工程来优化薄膜的缺陷结构。 界面粗糙度对光散射和效率的影响: 采用AFM和光学散射模型,量化了界面粗糙度对吸收层内载流子平均自由程的影响,并提出了优化生长参数以实现超光滑界面的实际操作指南。 第五章:界面工程在新型光电器件中的应用展望 本章将前述的界面机理研究与实际器件构建相结合,展望界面工程在未来光电器件中的应用潜力。 高效率、长寿命的稳定化器件设计: 重点介绍如何通过多层界面保护层(如超薄氧化物、聚合物层)的协同作用,有效阻挡环境侵蚀和离子迁移,实现器件的1000小时以上运行稳定。 界面介导的非铅基光电材料探索: 探讨在基于锡基或铋基材料中,如何利用界面工程克服其快速氧化和不稳定的问题,以期实现可持续的光电转换。 光电探测器与发光器件(LED)的界面优化: 分别讨论了在光电导型、光伏型探测器中,如何通过界面钝化降低暗电流和噪声;以及在LED中,如何优化注入界面以减少载流子俘获和俄歇复合。 本书适合从事材料科学、物理电子学、半导体器件物理及新能源技术研究的科研人员、研究生以及相关行业的工程师阅读和参考。全书图文并茂,数据翔实,力求提供一个深入理解和精准调控光电材料界面性能的综合性框架。

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