电磁兼容 试验和测量技术射频电磁场辐射抗扰度试验GB/T17626.3-2006

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isbn号码:9781550661293
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  • 电磁兼容
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  • 测量
  • GB/T17626
  • 3-2006
  • 电子技术
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具体描述

图书简介:先进材料的结构与性能研究 作者: [此处可填写假设的作者姓名,例如:李明,张华] 出版社: [此处可填写假设的出版社名称,例如:科学技术文献出版社] 出版年份: [此处可填写假设的出版年份,例如:2023] 页数: 约 750 页 --- 内容概要 本书系统、深入地探讨了当代先进功能材料在原子、微观和宏观层面上的结构特征,以及这些结构如何直接决定和影响材料的宏观物理、化学和工程性能。全书聚焦于新兴的复合材料、纳米材料、智能材料以及高性能结构材料,旨在为材料科学家、工程师和高年级本科生提供一个全面且具有前瞻性的知识框架。 本书的核心在于揭示“结构-性能”之间的内在联系,强调先进表征技术在解析复杂材料体系中的关键作用,并探讨材料设计如何驱动特定功能的最大化实现。我们刻意避开了侧重于电磁波传播、辐射干扰、屏蔽技术或特定标准(如GB/T 17626.3-2006)的领域,而是将重点完全置于材料本身的本构特性、制备工艺控制与多尺度结构演化上。 详细章节结构与核心内容 第一部分:先进材料的微观结构表征基础 (约 180 页) 本部分为理解后续高级材料性能奠定坚实的表征基础,但其侧重于物质结构的成像和成分分析,而非电磁环境下的响应测试。 第1章:晶体结构与缺陷工程: 深入阐述晶体学的基本原理,包括点缺陷、线缺陷(位错)和面缺陷(晶界)在金属合金、陶瓷和半导体中的形成机制。重点讨论如何通过热处理和塑性形变精确调控位错密度及其交互作用,以影响材料的力学性能(如屈服强度和韧性)。 第2章:电子显微学的原理与应用: 详细介绍透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)的成像模式,包括高分辨TEM(HRTEM)对晶格尺度的解析能力。内容包括选区电子衍射(SAED)在确定晶体取向和相界方面的应用,以及能量色散X射线谱(EDS)和波长色散X射线谱(WDS)在微区元素定性和定量分析中的最新进展。 第3章:光谱分析技术在化学键合研究中的应用: 聚焦于材料的化学状态和分子结构分析。深入讲解X射线光电子能谱(XPS)如何提供元素价态和化学环境信息;傅里叶变换红外光谱(FTIR)和拉曼光谱在有机高分子和生物材料的官能团识别中的精确应用,及其在监测固化过程中的时序变化。 第二部分:高性能结构材料的本构关系 (约 220 页) 本部分重点研究材料在机械载荷、热载荷下的宏观响应,完全不涉及电磁兼容性或射频场抗扰度测试的规范。 第4章:力学性能的尺度效应: 探讨从纳米晶体到宏观工程构件的尺寸效应。详细分析梯度材料和超细晶材料的强度、疲劳极限和蠕变行为。引入断裂力学中的关键概念,如应力强度因子和弹塑性断裂韧性评价,强调裂纹成核和扩展的微观机制。 第5章:热物理性质与传热机制: 研究材料的比热容、热膨胀系数和导热系数。特别关注纳米材料中热载流子(如声子)在复杂界面处的散射机制如何极大地降低整体热导率,这对热管理材料的设计至关重要。 第6章:高熵合金与多相复合材料的热力学稳定性: 深入分析多组分体系中相分离的驱动力,以及如何利用相图指导合金设计,以保证材料在极端温度下的微观结构稳定性和机械完整性。 第三部分:功能材料的结构设计与调控 (约 250 页) 本部分侧重于材料如何通过结构设计实现特定的非传统功能,如光、磁或催化活性,与电磁场抗干扰测试无关。 第7章:纳米材料的形貌控制与表面化学: 讨论量子点、纳米线和二维材料(如石墨烯、过渡金属硫化物)的精确合成方法,如化学气相沉积(CVD)和溶剂热法。重点分析材料的尺寸、形状和表面官能化如何决定其光学吸收特性和催化活性位点密度。 第8章:磁性材料的微结构与畴壁工程: 阐述铁磁性、反铁磁性材料中的磁畴结构、磁晶各向异性和磁滞回线特性。深入探讨如何通过应力、应变或界面工程来控制磁畴壁的运动,以优化软磁或硬磁元件的性能(例如,用于高密度存储器或高效永磁体)。 第9章:智能材料与刺激响应: 介绍形状记忆合金(SMA)、压电材料和形状记忆聚合物等材料在外界刺激(温度、压力、湿度)下发生显著形变或功能切换的机理。详细解析其迟滞效应和循环稳定性。 第四部分:先进制造技术与性能验证 (约 100 页) 本部分关注于如何将先进结构转化为可用部件,并采用非电磁类的特定测试方法进行性能验证。 第10章:增材制造(3D打印)对材料微结构的影响: 研究选区激光熔化(SLM)和电子束熔化(EBM)过程中快速凝固速率对晶粒尺寸、残余应力和孔隙率的影响。讨论如何通过优化扫描策略来控制层间结合质量和各向异性。 第11章:可靠性评估与寿命预测: 介绍基于物理的材料退化模型,包括腐蚀、疲劳和辐照损伤的加速测试方法。讨论如何利用加速寿命试验数据,结合威布尔分析等统计工具,对复杂服役环境下的材料寿命进行科学预测。 --- 适用读者 本书适合材料科学与工程、物理学、化学工程、机械工程等专业的硕士研究生、博士研究生、科研人员以及致力于开发下一代高性能材料的高级工程师阅读。它提供了对材料基础科学的深刻理解,同时紧密结合了最新的实验技术和工程应用挑战。本书旨在提升读者对材料微观结构与宏观性能之间复杂关系的洞察力,而非关注特定领域的电磁兼容性标准和测试方法。

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读后感

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用户评价

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这本书的逻辑结构简直像一团乱麻,章节之间的衔接生硬到令人发指。作者似乎没有经过专业的编辑和审阅,导致知识点跳跃性极大。读到一半的时候,我甚至怀疑自己是不是漏掉了某几页,因为前一页还在讲场强测量探头的选择,下一页突然就跳到了电磁兼容标准体系的宏观概述,两者之间没有任何过渡性的文字解释为何要进行这种突然的跳转。对于初学者来说,这种不连贯性无疑是致命的打击,他们需要的是一条清晰、循序渐进的学习路径,而不是这种散乱无章的知识碎片堆砌。我尝试用思维导图的方式梳理书中的脉络,但很快就放弃了,因为这本书本身就没有一个清晰的逻辑骨架可言。它更像是一份临时会议的记录草稿,而不是一本经过精心打磨的学术著作。

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从印刷质量上看,这本书也显得极为粗糙。纸张选择了那种泛黄、反光的纸张,长时间阅读眼睛非常容易疲劳。更令人不解的是,书中有大量的图表,但这些图表的清晰度简直让人无法忍受,许多关键的波形图和电路示意图上的线条模糊不清,标注的数值小到需要借助放大镜才能辨认,这在技术手册中是绝对不可容忍的错误。如果说内容是这本书的灵魂,那么印刷质量就是它的外衣,这件外衣显然是粗制滥造的。作为一个严肃的技术参考资料,对图文的清晰度要求是最低的底线,这本书显然没有达到这个底线。我不得不花时间去网上寻找更高清的官方标准图样来对照理解书中的内容,这极大地影响了我的学习效率和阅读体验,可以说,这次购买体验非常令人失望。

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我购买这本书主要是希望能找到关于现代射频电磁兼容测试设备选型和维护的最新信息。然而,书中对测试设备的介绍停留在非常基础的层面,甚至有些描述已经严重脱离了当前主流仪器的技术水平。比如,它还在强调某些早已被高性能频谱分析仪取代的测试装置的性能参数,这让作为工具书的使用价值大打折扣。在涉及数据处理和不确定度分析的部分,作者的处理更是敷衍了事,仅仅提及了几个简单的统计学概念,完全没有深入到现代EMC测试报告中对测量不确定度进行量化和报告的规范要求。对于需要撰写符合国际认可的测试报告的人员来说,这本书提供的帮助微乎其微,它更像是一个停留在理论概念介绍阶段的“入门读物”,但即便是入门,它的讲解也显得不够深入和贴切实际。

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作为一个在EMC领域摸爬滚打多年的工程师,我对市面上大多数教材都有一定的了解,但这本书的深度和广度都远远达不到一本合格的专业参考书的标准。它似乎只是将国家标准条文进行简单的罗列和转述,缺乏对背后物理机理和工程实践中常见陷阱的深入剖析。例如,在描述辐射抗扰度测试中的场强均匀性控制时,书中只是照搬了标准公式,但对于如何在高反射率的试验室内有效减小驻波效应,如何选择合适的耦合天线进行精确校准,完全没有提及任何实用的经验和技巧。阅读体验极其枯燥,语言风格像是在念法院的判决书,没有丝毫的学术探讨的趣味性。我期望能看到一些实际案例分析,比如某个产品因为抗扰度设计不当而失败的教训,以及如何通过优化屏蔽或滤波来解决问题,但这些内容在书中完全缺失,显得非常空泛和理论化,对提升实际解决问题的能力毫无帮助。

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这本书的装帧设计简直是灾难,封面那种廉价的塑料光泽,拿到手里就有一种不祥的预感。字体排版也极其混乱,很多专业术语的缩写都没有给出明确的定义,像是作者赶着交稿,随便拼凑出来的。我本来是想通过这本书系统学习射频抗扰度试验的基础理论和实际操作流程,结果翻开目录就感觉不对劲。内容上,对GB/T17626.3-2006标准的解读晦涩难懂,很多关键的测试环境参数描述得含糊不清,根本无法指导实际的试验搭建。更要命的是,书中引用的参考资料非常老旧,很多技术名词已经随着行业发展被淘汰或更新了,感觉像是在阅读一本十年前的过时手册。如果一个新手想通过它入门,恐怕会迷失在这些错误的指引中,最终对整个电磁兼容领域产生错误的认知。我花了大量时间去查阅其他更权威的资料来印证书中的某些论点,这完全违背了购买技术专著的初衷。这本书的价值,坦白地说,几乎为零,纯粹是浪费时间和金钱。

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