Vacuum Deposition Onto Webs, Films and Foils pdf epub mobi txt 电子书下载 2026

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出版者:William Andrew Pub

作者:Bishop, Charles A.

出品人:

页数:495

译者:

出版时间:2006-11

价格:$ 242.95

装帧:HRD

isbn号码:9780815515357

丛书系列:

图书标签:

Vacuum Deposition
Thin Films
Web Coating
Film Deposition
Foils
Materials Science
Surface Engineering
PVD
Metallization
Polymer Films

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具体描述

This new book from William Andrew Publishing is the only practical reference available for anyone employing the roll-to-roll deposition process. Vacuum Deposition onto Webs, Films and Foils is an expansive journey of the process; benefiting manufacturing efficiency, unit cost reduction, and financial results. It is a sweeping approach to the total design of the vacuum deposition process written by a successful and world renowned consultant with three decades of experience.Roll-to-roll deposition processing is a high growth industry and this reference covers a wide variety of important industrial products that use vacuum deposited coatings, including: optical storage devices, metallized packaging films, energy conservation windows, electronic information displays, and magnetic electronic article surveillance (EAS) tags among many others. This book is a must-have for roll-to-roll machine operators, process engineers, and research and development engineers throughout industry.The book provides a broad appreciation of roll-to-roll vacuum deposition systems and processes. It will encourage a more comprehensive look from material supply through to the downstream processes that the product will encounter. It is a truly unique reference written to guide operators and engineers as an onsite consultant would.

好的，这是一本名为《真空镀膜：基材、薄膜与箔片上的应用》的专业书籍的详细内容介绍，这本书深入探讨了各种基材上进行真空镀膜的关键技术、原理、设备以及应用领域。图书名称：《真空镀膜：基材、薄膜与箔片上的应用》 ISBN： [此处应填写具体ISBN] 作者： [此处应填写作者姓名] 出版年份： [此处应填写出版年份] 内容概述：本书是一部全面而深入的专业著作，旨在为材料科学家、薄膜工程师、设备制造商以及相关领域的研究人员提供关于真空镀膜技术在各类基材上应用的基础理论、先进工艺和实际操作指导。全书内容聚焦于真空环境下，通过物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）等方法，将特定材料在基材、薄膜以及箔片表面形成功能性或装饰性涂层的复杂过程。核心内容板块解析：第一部分：真空镀膜基础与原理本部分首先为读者建立了坚实的理论基础。详细阐述了真空技术在镀膜过程中的核心作用，包括不同真空度的定义、真空系统的构建、真空泵的选择与维护，以及如何确保和监测超高真空环境。随后，深入剖析了真空镀膜的主要物理化学过程。重点介绍了薄膜的成核、生长机制、微观结构演变（如晶态、非晶态、多晶态结构）与沉积条件（如基材温度、沉积速率、气体压力）之间的复杂关系。讨论了薄膜的表面能、界面能、应力/应变分析等关键概念，这些是理解薄膜性能的关键。第二部分：主流镀膜技术详解本部分详细介绍了当前工业界和实验室中最常用的几种真空镀膜技术，并着重讨论了它们在不同基材上的适用性。物理气相沉积（PVD）技术：热蒸发技术：涵盖了电阻加热、电子束蒸发等方法，分析了其在制备高纯度金属和低熔点氧化物薄膜时的优势与局限性。溅射技术：深入探讨了直流（DC）溅射、射频（RF）溅射、磁控溅射的工作原理，特别是高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）和反应性溅射技术，用于制备硬质合金、氮化物、氧化物等功能涂层。脉冲激光沉积（PLD）：讲解了激光烧蚀靶材的机制，尤其适用于复杂组分材料（如高温超导体、铁电材料）的精确转移。化学气相沉积（CVD）技术：尽管本书侧重于真空环境，但对低温和中温CVD工艺也有所涉及，特别是原子层沉积（ALD）技术，因其在基材上实现近乎完美的厚度控制和保形性方面的突出表现，被作为一种重要的“类真空”薄膜制备方法进行详述。第三部分：基材的特性与预处理本部分强调了基材选择和表面准备对最终薄膜质量的决定性影响。基材分类与要求：详尽分析了金属（如钢、铝、铜）、聚合物（塑料）、陶瓷、玻璃以及柔性箔片（如聚酯、聚酰亚胺）等不同类型基材的物理和化学特性，以及它们对镀膜工艺的约束。表面清洁与活化：系统介绍了用于去除有机污染物、氧化层和颗粒的各种湿法清洗技术（如溶剂清洗、酸碱处理）以及等离子体清洗技术。讨论了如何通过表面粗化、化学改性（如偶联剂处理）来提高薄膜与基材之间的附着力。第四部分：特定基材上的镀膜工艺与挑战这是本书的特色部分，详细探讨了在具有挑战性的基材上实现高质量镀膜的技术细节。在金属和合金基材上的应用：侧重于制备耐磨损、抗腐蚀涂层（如TiN, CrN）以及导电或阻隔层。讨论了如何控制镀膜过程中的热影响和内应力，以避免基材变形或分层。在聚合物（塑料）基材上的镀膜：针对聚合物的耐温性低、表面能不均的特点，重点介绍了低温PVD技术（如电子束或高功率磁控溅射）的应用，以及如何通过等离子体预处理提高其表面活性和附着力。在柔性箔片上的连续镀膜技术：深入研究了卷对卷（Roll-to-Roll, R2R）镀膜系统的设计、运行参数控制和在线监测技术。讨论了在高速、柔性基材上实现均匀、高沉积率镀膜的工程挑战，及其在柔性电子、包装阻隔膜中的应用。在预先制备的薄膜上的二次镀膜：探讨了在已有的功能性薄膜（如介质层、半导体层）上进行二次或多层镀膜的技术，重点关注层间界面质量的控制和新旧材料的兼容性。第五部分：薄膜的表征与性能评估为确保镀膜过程的有效性，本部分详细介绍了用于分析最终产品质量的各种先进表征技术。结构与形貌分析：包括扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）用于观察截面形貌和晶体结构；原子力显微镜（AFM）用于表面粗糙度和微观形貌分析；X射线衍射（XRD）用于物相鉴定和晶格常数测定。成分与化学态分析：介绍X射线光电子能谱（XPS）、俄歇电子能谱（AES）在确定薄膜化学组分和界面化学状态方面的应用。物理性能测试：涵盖了硬度与弹性模量（纳米压痕）、粘附力测试（划痕测试、拉拔测试）、光学性能（光谱反射/透射率）以及电学性能（电导率、介电常数）的测量方法和标准。第六部分：工业应用实例与未来趋势本书最后一部分通过具体的案例研究，展示了真空镀膜技术在各个前沿领域的成功应用，包括：光学领域：高效抗反射膜、滤光片、增透膜的制备。电子与能源领域：柔性OLED显示屏的封装阻隔层、太阳能电池的透明导电电极（TCO）、锂离子电池的电极保护涂层。工具与机械领域：刀具和模具的高性能耐磨涂层。生物医用领域：生物相容性涂层、仿生表面制备。展望未来，本书还探讨了先进的在线监测技术、人工智能在工艺优化中的应用，以及制备超薄层、超晶格结构等前沿研究方向，为读者指明了行业发展的方向。本书特点： 1. 深度与广度兼备：既有对基础物理化学原理的严谨论述，也有对工程实践中常见问题的实用解决方案。 2. 工艺导向：强调不同基材（尤其是柔性与聚合物基材）对工艺窗口的特殊要求，实用性强。 3. 图表丰富：包含大量的工艺流程图、微观结构图和性能对比图表，辅助理解复杂概念。 4. 面向应用：紧密结合现代高新技术产业的需求，是从事相关领域工作的工程师和研究人员的必备参考书。