《集成電路(IC)製程簡論》以通俗生動的語言、圖文並茂的形式，簡要介紹瞭集成電路製程。以特徵綫寬130nm以下為重點，涉及集成電路製作工藝的各個方麵，特彆是包括短波長光源、步進與掃描照相曝光係統、CMP平坦化、雙大馬士革Cu布綫、低-k介質材料、SoC與SiP等。不僅便於讀者入門，特彆是指明問題的關鍵和發展方嚮。對於與集成電路(IC)製程、材料、設備以及微電子應用相關的科技工作者和工程技術人員，《集成電路(IC)製程簡論》具有極為難得的參考價值，也可以作為相關專業本科生、研究生用教材和參考書。
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