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MOS集成电路结构与制造技术

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作者
译者
1970-1 出版日期
434 页数
68.00元 价格
丛书系列
9787532399901 图书编码

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发表于2024-11-24


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MOS集成电路结构与制造技术 在线电子书 图书描述

《MOS集成电路结构与制造技术》利用集成电路剖面结构技术,系统地介绍MOS集成电路结构和典型集成电路制造技术,包括PMOS(E/E型、E/D型)、NMOS(E/E型、E/D型)、CMOS(P-Well、N-Well、TWin-Well)、LV/HV兼容CMOS、BiCMOS、LV/HV兼容BiCMOS以及LV/HV兼容BCD。书中描绘出组成各种集成电路的各种元器件工艺剖面结构,从而建立了元器件工艺剖面结构中高达120余种的基本单元库。根据基本单元库描绘出高达360余种电路芯片工艺剖面结构。然后根据电路芯片工艺剖面结构和制造技术,介绍了40余种典型集成电路制造技术,并描绘出工艺制程中各个工序的平面结构和工艺剖面结构。如此深入地展示电路芯片工艺剖面结构,有助于电路设计、芯片制造、良率提高、产品质量改进、电路失效分析等。

《MOS集成电路结构与制造技术》技术含量高,非常实用,可作为从事MOS集成电路设计、制造等方面工程技术人员的参考资料或者是公司员工培训的教材,也可以作为微电子专业高年级本科生的重要参考书,同时可供信息领域其他专业的学生和相关科研人员、工程技术人员参考。

集成电路各种剖面结构和工艺制程图示的复制引用,转载时,必须得到本版权所有者的同意,否则将依法追究责任。

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