Nanofabrication

Nanofabrication pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:
作者:Cui, Zheng
出品人:
页数:360
译者:
出版时间:2008-9
价格:$ 202.27
装帧:
isbn号码:9780387755762
丛书系列:
图书标签:
  • 纳米制造
  • 纳米技术
  • 微纳加工
  • 材料科学
  • 物理
  • 化学
  • 工程学
  • MEMS
  • 纳米材料
  • 表面科学
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具体描述

This book provides the reader with the most up-to-date information and development in the Nanofabrication area. It presents a one-stop description at the introduction level on most of the technologies that have been developed which are capable of making structures below 100nm. Principles of each technology are introduced and illustrated with minimum mathematics involved. The book serves as a practical guide and first hand reference for those working in nanostructure fabrication.

《微观世界的精雕细琢:材料科学与工程的新纪元》 在这本引人入胜的图书中,我们将一同踏上一段探索物质世界最深层奥秘的旅程。本书并非聚焦于某个特定技术或学科,而是深入剖析构成我们宇宙的基石——原子和分子——如何被以前所未有的精度进行操控和构建。我们将目光投向那些介于宏观世界与原子世界之间的微妙尺度,在那里,物质展现出其最令人惊叹的性质,并催生出革新性的应用。 本书将从宏观视角出发,逐步深入到微观尺度的运作机制。我们首先会回顾材料科学与工程发展的简史,理解科学家们是如何一步步掌握对物质结构的认识,以及如何从简单的物理和化学加工,走向对材料性能进行精确调控的时代。这将为读者建立一个坚实的背景,理解为何对微观尺度的操控如此重要,以及它为人类社会带来了怎样的变革潜力。 随后,我们将详细探讨实现这些微观操控的关键技术原理。这部分内容将以深入浅出的方式,介绍一系列至关重要的技术手段。我们不会仅仅罗列术语,而是会追溯这些技术的科学根源,解释它们是如何运作的。例如,在涉及光刻技术时,我们将从光的衍射和干涉基本原理讲起,然后阐述不同类型光源(如紫外光、深紫外光,甚至电子束和离子束)在实现更高分辨率和更精细图案上的优势与挑战。我们会探讨掩模版的设计、光刻胶的选择与特性,以及显影过程中的化学反应,层层剖析如何将设计蓝图转化为实际的微观结构。 同样,在介绍薄膜沉积技术时,我们将涵盖物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)等主流方法。对于PVD,我们会解释溅射和蒸发的物理过程,以及如何通过控制溅射靶材、气体环境和基板温度来影响薄膜的晶体结构、密度和表面形貌。对于CVD,我们会深入探讨前驱体气体的选择、反应机理、催化剂的作用,以及等离子体增强CVD(PECVD)如何通过降低反应温度,使得在各种材料基底上沉积薄膜成为可能。我们还会讨论原子层沉积(ALD)的独特之处——其原子级别的自限性生长模式,如何实现超高均匀性和优异的共形性,这对于制备复杂三维结构至关重要。 此外,本书还将对蚀刻技术进行详尽的分析。干法蚀刻,特别是反应离子蚀刻(RIE)和其衍生技术(如深反应离子蚀刻,DRIE),将是重点。我们会深入探讨等离子体的产生与特性,化学反应与物理轰击在蚀刻过程中的协同作用,以及如何通过调整工艺参数(如气体种类、功率、压力、温度)来控制蚀刻速率、各向异性(垂直度)和选择性。湿法蚀刻虽然在某些应用中仍然有其优势,但其各向同性也限制了其在制作高深宽比结构时的应用,本书也将对其进行必要的介绍和比较。 除了这些核心的制造技术,本书还会深入探讨表征与测量技术。如何“看到”并“量化”这些微观结构是至关重要的。我们将介绍扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和原子力显微镜(AFM)等成像技术,解释它们的工作原理、分辨率极限以及它们在揭示材料形貌、晶体结构和表面粗糙度等方面的独特能力。对于尺寸和结构的精确测量,我们还会涉及椭偏仪、原子力显微镜的探针测量等技术,以及它们在质量控制和工艺优化中的作用。 本书的另一大亮点在于,我们将理论知识与实际应用紧密结合。每一项技术介绍之后,都会有相应的案例分析,展示这些技术是如何被应用于各个前沿领域的。我们将探索它们在集成电路制造中的核心作用,例如如何通过多层光刻和蚀刻技术来构建数十亿个晶体管的微处理器,以及新一代的光刻技术(如EUV光刻)是如何推动摩尔定律的延续。 在传感器与微纳机电设备(MEMS/NEMS)领域,我们将看到这些技术如何创造出能够感知环境变化(如压力、温度、化学物质)的微小装置,以及如何将机械运动转化为电信号,实现各种微型驱动器、执行器和传感器。我们会探讨硅微加工和玻璃微加工的技术特点,以及如何通过精密加工来制造微型齿轮、梁、腔体等结构。 本书还将触及生物医学工程的交叉领域。我们将讨论如何利用这些技术来构建微流控芯片,实现对细胞、DNA等生物分子的分离、操控和分析,推动精准医疗和药物研发。我们也会探讨生物兼容性材料的制备,以及如何将微纳结构应用于生物成像、组织工程和可植入式医疗设备。 在光学与光子学领域,本书将展示如何利用这些技术来制造光子晶体、微透镜阵列、波导以及其他能够精确控制光传播的纳米结构,为下一代通信、显示和能源技术奠定基础。 此外,我们还将对新兴的制造方法和未来发展趋势进行展望。这包括对纳米压印(NIL)等非传统光刻技术的探讨,以及如何通过3D打印技术来构建越来越精细和复杂的微观结构。我们还会讨论人工智能和机器学习如何在优化微观制造工艺、预测材料性能以及设计新型纳米结构中发挥越来越重要的作用。 总而言之,本书的目标是为读者提供一个全面而深刻的视角,理解微观尺度下物质操控的精妙之处,以及它如何正在以前所未有的方式重塑我们的技术和生活。无论您是材料科学、电子工程、物理学、化学,还是生物医学等领域的学生、研究人员或从业者,本书都将为您打开一扇通往微观世界的大门,激发您对这个充满无限可能的领域的探索热情。我们将一同学习如何“精雕细琢”,在原子和分子的层面创造奇迹。

作者简介

目录信息

读后感

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用户评价

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这本书,拿到手的时候就感觉沉甸甸的,封面设计得很有质感,那种深邃的蓝色调,让人联想到微观世界的深不可测。我本来是抱着一种有点将信将疑的心态开始阅读的,毕竟涉及到前沿的纳米技术,总担心会变成晦涩难懂的教科书。然而,作者的叙事方式非常引人入胜,他没有直接抛出复杂的公式和实验数据,而是选择从历史的宏大叙事切入,讲述人类如何一步步从宏观尺度迈向原子级别的控制。书中对早期微加工技术的描述,比如光刻技术的演进,简直像一部精彩的科幻片,描绘了科学家们如何通过精妙的“雕刻”来创造出前所未有的结构。特别是关于**光刻分辨率的极限**那部分,作者用生动的比喻解释了衍射极限的难题,让我这个非专业人士也能感受到那种挑战物理定律的激动人心。更让我印象深刻的是,书中对不同材料在纳米尺度下展现出的奇特性质的探讨,这部分内容展现了作者深厚的跨学科功底,将物理、化学乃至材料科学的知识巧妙地编织在一起,构建了一个清晰而又充满魅力的微观世界图景。这本书的结构安排极具匠心,知识点的过渡自然流畅,让人在不知不觉中就被带入了那个充满无限可能的纳米尺度。

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这本书的深度和广度着实令人惊叹,它不仅仅停留在对现有技术的罗列,而是深入探讨了背后的科学原理和工程挑战。阅读过程中,我多次停下来反复咀嚼某些章节,尤其是关于**电子束刻蚀与聚焦离子束(FIB)**技术的对比分析。作者对每种技术的优缺点、适用范围以及其在不同应用场景中的局限性进行了极其细致的剖析。他没有回避技术发展中遇到的瓶颈和尚未解决的难题,反而将这些挑战视作推动创新的驱动力,这使得整本书读起来充满了真实感和探索精神。我特别欣赏作者在论述中展现出的批判性思维,他会引用多方学者的观点,甚至对一些被广泛接受的理论提出审慎的质疑或补充性的见解,这种多角度的审视极大地提升了本书的学术价值。对于那些希望深入了解纳米器件制造流程的人来说,这本书提供的细节是无可替代的,它就像一张极其精密的蓝图,展示了如何将理论构想转化为可触摸的微小实体。读完后,我对这个领域的复杂性和精密度有了全新的敬畏感。

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我以一个对**半导体产业**发展历程感兴趣的旁观者的角度来看待这本书,发现它提供了许多宏观视角下难以获取的内部视角。书中关于**无尘室环境控制**的描述,简直像是在描述一座为原子服务的精密工厂,从空气过滤到温湿度控制的每一个环节,都体现了人类对环境极致的苛求。这种对“洁净度”的执着,与其说是技术要求,不如说是一种对完美的偏执追求。作者在描述这些流程时,语言充满了画面感,仿佛我正亲身站在操作台前,目睹着复杂的机械臂如何在真空环境下进行着纳米级的组装。尤其是在谈到**薄膜沉积技术**(如ALD和PVD)时,作者没有用干巴巴的物理定义搪塞过去,而是生动地描绘了原子层层堆叠的过程,那种如同精妙的砖瓦匠一般,精确控制每一个单元的放置,令人叹为观止。这本书对于理解现代电子产品核心部件的制造逻辑,起到了极好的普及和深化作用,让我对手机芯片的“魔力”有了更深的理解,那绝非简单的堆砌,而是工程学的奇迹。

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这本书的阅读体验,更像是与一位经验老到的行业前辈进行了一次高强度的私教课。它不太适合希望快速了解基本概念的初学者,因为它在很多地方都要求读者具备一定的基础知识储备,或者至少是愿意投入时间去查阅背景资料的耐心。我个人最喜欢的是其中关于**可靠性工程与缺陷分析**的部分。作者深入剖析了在纳米尺度下,一个微小的结构缺陷可能引发的灾难性后果,并详述了如何通过先进的成像和检测技术(如TEM的最新应用)来“揪出”这些肉眼不可见的敌人。这种对失败的深入研究,比单纯歌颂成功更有价值。书中提及的**统计学在良率控制中的应用**,展现了从工程实践中提炼出数学规律的智慧。作者的论述逻辑严密,层层递进,使得即便是处理统计模型的部分,也显得不那么枯燥,因为你知道这些数字背后代表着数以亿计的硅片和数十亿美元的投资。整本书散发着一种务实的、解决问题的气息,而非空泛的理论探讨。

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从文学性上评价,这本书的语言风格是极其克制而有力的,它避免了过度的夸张,所有的赞美都建立在坚实的技术事实之上。最让我感到震撼的,是作者对**未来方向的展望**部分,他没有陷入科幻的迷雾,而是基于当前技术发展的“加速度”和物理定律的约束,描绘了几种最有可能实现的下一代制造范式。这种基于现实的、审慎的乐观主义,远比盲目的吹捧更具说服力。书中对**自下而上(Bottom-up)方法**与**自上而下(Top-down)方法**的长期竞争与融合趋势的分析,提供了绝佳的思考框架。他清晰地指出,未来很可能是一种混合策略,而不是某一方的彻底胜利。这本书的排版和图示也值得称赞,那些复杂的截面图和流程图,标注清晰,比例得当,极大地辅助了对三维结构的理解。对于任何一位想在材料科学、微电子或生物技术领域深耕的人士来说,这本书无疑是一份不可多得的、跨越时间深度的宝贵参考资料。

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