Quantitative EPR

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出版者:Springer Verlag GmbH
作者:Barr, David P.
出品人:
页数:185
译者:
出版时间:
价格:$ 157.07
装帧:
isbn号码:9783211929476
丛书系列:
图书标签:
  • EPR
  • 量子化学
  • 自旋化学
  • 自由基
  • 过渡金属
  • 光谱学
  • 量子计算
  • 材料科学
  • 化学物理
  • 分子结构
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具体描述

This is the first comprehensive practical guide for people who perform EPR measurements, or supervise the use of EPR spectroscopy, and want to obtain quantitative results. No existing book provides this level of practical guidance to ensure successful use of EPR. This meets the growing need in both industrial and academic research to provide meaningful and accurate quantitative results from EPR experiments. Discussed are the various sample-related, instrument-related and software-related aspects for obtaining useful quantitative results from EPR experiments. Some specific items discussed include: choosing a reference standard, resonator considerations (Q, B1, Bm), power saturation characteristics, sample positioning, and finally, putting all the factors together to provide a calculation model for obtaining an accurate spin concentration of a sample. Both relative intensity quantification and the absolute spin concentration of EPR samples are covered are covered as well. Numerous pictures of the effect of instrument parameters on EPR spectra are included and careful attention to the guidance given in this book will ensure quantitatively accurate EPR spectra.

好的,这是一份关于一本假想的、与《Quantitative EPR》内容无关的图书简介。 书名: 晶体生长与界面物理:从理论到应用 作者: 贾森· R. 霍夫曼,伊莎贝拉· M. 维拉 出版社: 高级材料科学出版社 出版日期: 2024年10月 晶体生长与界面物理:从理论到应用 简介 《晶体生长与界面物理:从理论到应用》是一部深入探讨固体材料从液相、气相或固相前驱物中形成过程中所涉及的复杂物理化学过程的权威性著作。本书旨在弥合理论热力学与动力学模型与实际晶体生长工艺之间的鸿沟,为材料科学家、物理学家以及从事高端半导体、光电子器件和先进陶瓷制造的工程师提供一套全面的参考框架。 本书结构严谨,内容涵盖了晶体生长理论的基石,特别是界面能、形核机制以及宏观尺度下的物质与能量传输过程。我们不仅关注理想平衡条件下的晶体结构形成,更着重剖析了在非平衡态下,界面动力学如何主导晶体形貌、缺陷演化乃至最终材料性能的演变。 主要内容与结构 本书分为五大部分,共十五章,循序渐进地构建了理解晶体生长过程的知识体系。 第一部分:晶体生长的基础热力学与动力学(第1章至第3章) 本部分为全书奠定理论基础。首先,第1章《相图与热力学驱动力》详细分析了多组分体系的相平衡、相图的解读及其在确定生长窗口中的关键作用。我们考察了吉布斯自由能的最小化原理,并引入了化学势梯度作为驱动晶体生长的核心概念。 第2章《界面能与形核理论》深入探讨了表面自由能的各向异性及其对晶体形态的影响。着重介绍了经典形核理论(CNT)的局限性,并详细阐述了非经典形核机制,如团簇的形成与演化。此处特别关注了异质形核的界面匹配条件。 第3章《动力学与界面反应速率》将焦点转移到原子尺度的物质传输和整合过程。讨论了原子在界面上的吸附、扩散和反应动力学。引入了扩散限制的生长模型,并对比了表面反应控制和扩散控制两种模式下的生长速率方程。 第二部分:宏观传输现象与界面稳定性(第4章至第7章) 本部分侧重于在实际生长设备中,热量、质量和动量传输如何影响晶体的均匀性和质量。 第4章《热量传输与温度场控制》分析了在晶体生长过程中不可避免的热梯度问题。详细阐述了傅里叶定律在非均匀加热环境下的应用,并讨论了如何通过优化炉体设计(如热障和辐射屏蔽)来控制温度场,以最小化热应力。 第5章《质量传输与溶质偏析》是关于成分均匀性的关键章节。在液相外延(LPE)和熔融生长(MBE)技术中,溶质的快速扩散和对流是造成成分不均匀的主要原因。本章详细分析了边界层理论,并给出了界面处溶质再分配系数(分配系数)的动态演化模型。 第6章《界面不稳定性:宏观与微观视角》是本书的核心内容之一。我们详细剖析了 Mullins-Sekerka 不稳定性。通过对热力学和动力学参数的线性稳定性分析,解释了如何从光滑界面过渡到凹凸不平(如枝晶生长)的形态。此外,还探讨了由表面张力梯度驱动的马兰戈尼效应在液相体系中的作用。 第7章《流体力学与对流的抑制》针对液相和气相生长系统中的对流问题。探讨了自然对流(热浮力)和强迫对流(如通气或搅拌)对生长界面的扰动。重点介绍了磁场抑制技术(如磁流体动力学)在减少对流对晶体质量影响方面的应用。 第三部分:特定生长技术中的界面现象(第8章至第10章) 本部分将理论框架应用于主流的晶体生长方法,展示界面物理如何具体体现于工程实践中。 第8章《气相外延中的原子层沉积》聚焦于化学气相沉积(CVD)和分子束外延(MBE)过程。详细讨论了前驱体在衬底上的吸附、解离和表面迁移机制。着重分析了表面缺陷(如台阶、褶皱)如何引导原子整合,并讨论了原子级平整表面的实现条件。 第9章《溶液与熔体生长中的固液界面》涵盖了冷却结晶、布里奇曼法(Bridgman)和柴可拉斯基法(CZ)。本章强调了在这些技术中,固液界面的过冷度对界面能和生长速率的耦合效应,以及如何通过控制拉速和旋转速率来管理界面形貌。 第10章《固-固界面与薄膜异质外延》关注涉及固态前驱体的生长,尤其是在异质外延中的应力积累。讨论了晶格失配导致的位错形成机制,以及如何利用缓冲层策略或超晶格结构来管理和限制缺陷的扩展。 第四部分:缺陷的形成、演化与控制(第11章至第13章) 晶体质量的关键在于缺陷的控制。本部分深入研究了点缺陷、线缺陷和面缺陷在生长过程中的起源和迁移。 第11章《点缺陷与化学计量》分析了晶体中空位、间隙原子以及替代性杂质的形成热力学。重点阐述了化学计量偏差如何影响材料的电学和光学性质,并介绍了通过控制气氛或气氛压力来调控缺陷浓度的工程方法。 第12章《位错的形核与传输》详细考察了由热应力、生长不匹配或界面应力触发的位错源的激活。讨论了位错在晶体内部的攀移、交滑移以及在界面处的湮灭机制。对位错密度与宏观机械强度的关系进行了定量分析。 第13章《相变与孪晶的控制》探讨了涉及晶体结构重排的过程。分析了晶体生长过程中温度或应力诱发的马氏体相变,以及如何通过精确控制冷却速率或界面能来抑制有害的孪晶和多晶体形成。 第五部分:先进材料与新兴应用(第14章至第15章) 本书最后部分将视角拓展至前沿研究领域,展示界面物理在新型材料设计中的指导作用。 第14章《纳米晶体与界面工程》探讨了在纳米尺度下,由于表面体积比的显著增加,界面效应如何完全主导材料的性质。讨论了量子尺寸效应在纳米晶体生长中的体现,以及如何通过模板引导实现结构控制。 第15章《高熵合金与复杂晶体生长》展望了多主元合金体系的生长挑战。分析了多组分体系中原子扩散的复杂性以及界面稳定性在多组分固溶体中的新行为,为设计具有新颖性能的复杂晶体结构提供了物理指导。 目标读者 本书适合高年级本科生、研究生以及从事材料科学、物理学、化学工程及相关领域的专业研究人员和工程师阅读。需要具备基础的固体物理、热力学和输运现象知识。 规格: 精装,650页,包含大量插图、流程图和实例分析。 关键词: 晶体生长、界面物理、形核动力学、传输现象、缺陷控制、外延生长、材料热力学。

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读后感

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用户评价

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这本书的排版和插图设计,坦白说,有些过时了。如果不是为了研究的需要,我可能很难有动力去持续阅读。图表的清晰度在某些复杂的能级结构示意图中显得有些拥挤,特别是当涉及到多个量子数的相互作用时,一个不够精妙的示意图,很容易让人在复杂的数学符号中迷失方向。我特别留意了关于超精细相互作用(Hyperfine Interaction)的章节,期望能找到对不同类型自由基(如过渡金属离子或有机自由基)在不同溶剂环境下的特征谱线解析技巧的深入总结。书中确实提到了理论模型,但针对性强的、具有图谱对比性质的案例似乎不多,更多的是基于理想化的数学模型进行的推演。这使得我在尝试将书中的解析工具应用到我正在分析的、受环境因素强烈影响的样品时,需要进行大量的“翻译”工作,将抽象的数学描述转化为具体的物理图像。可以说,这本书在知识的“深度”上无懈可击,但在知识的“广度”和“应用友好性”上略显保守和传统,更像是一本为学术档案准备的经典教材,而非一本面向快速迭代的科研前沿的工具书。

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阅读《Quantitative EPR》的过程中,我最大的感受是它的“哲学深度”。作者似乎对“定量”二字的理解,已经超越了单纯的数值计算和误差分析,而是深入到了对测量极限和信息论的探讨层面。其中关于光谱学中信号到噪声比(SNR)的提升策略的讨论,不是简单地介绍“多扫描几次”这种基础操作,而是从量子效率和系统热力学角度进行了剖析,这确实令人耳目一新。然而,这种深刻性也带来了阅读上的高门槛。例如,书中关于高阶微扰理论的阐述,即便配有详细的推导步骤,也需要读者对近似方法的适用范围有极强的敏感度。我发现自己不得不频繁地查阅额外的量子力学参考书,以确保对每一个近似步骤背后的物理意义有透彻的理解。这本书几乎没有使用任何“速成”的技巧或简化步骤来取悦读者,它坚持用最严谨、最全面的方式构建其理论体系。因此,对于那些追求快速解决问题、希望找到现成拟合函数的科研人员来说,这本书可能显得过于“学术化”和“冗长”,它要求读者不仅是EPR的使用者,更得是一个EPR理论的构建者。

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作为一本关于“定量”的专著,我对它在仪器误差分析和不确定性传播方面的处理抱有极高的期望。我希望这本书能提供一套近乎完备的、用于评估最终定量结果可靠性的方法论。在关于定量分析结果的可靠性评估那一部分,书中详细讨论了系统误差和随机误差的来源,并给出了基于统计力学的处理框架。然而,对于当代实验室中常见的、由仪器老化、温度漂移或射频串扰等实际操作问题导致的复杂误差源的剥离与量化,书中的讨论略显不足,可能因为这些问题高度依赖于具体仪器的设计和维护状况。总的来说,这本书成功地建立了一个坚固的、纯理论的定量分析基石,它让你明白**为什么**你的数据应该呈现某个形式,以及**如何**从数学上推导出这个形式。但对于“在真实、嘈杂的实验室环境中,我手头的这台设备出了点小毛病,我该如何调整我的数据处理流程以尽可能保留定量信息的准确性”这类更贴近日常实验的、操作性的指导,它提供的间接启发多于直接的解决方案,更像是一部理论的“圣经”,而非实验的“操作手册”。

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翻阅这本书的过程,更像是一次对知识边界的探索,而不是一次轻松的学习之旅。我原本期望能找到一些关于现代脉冲EPR技术,比如DEER或PELDOR实验在实际应用中的“最佳实践”或者“常见陷阱”的讨论。但这本书的重点似乎完全放在了经典EPR谱解析的理论框架构建上,对现代脉冲序列的介绍非常简略,甚至可以说是一种“点到为止”的态度。让我印象深刻的是其中关于弛豫过程建模的部分,作者用极其严谨的语言描述了不同温度和场强下自旋系统的行为,这部分内容确实极具学术价值,对于理解信号衰减的本质非常有帮助。然而,当我想去寻找如何用这些理论知识去优化我们实验室的磁场扫描速率或微波功率设置时,却发现线索变得模糊不清。很多关键参数的选取似乎仍依赖于读者的经验判断,书里提供的更多是“为什么会这样”,而不是“你应该怎么做”的直接答案。对于急需解决实际仪器参数配置问题的实验人员来说,这本书的实用性打了一个折扣,它更侧重于**解释现象**的底层逻辑,而非**优化过程**的直接操作手册。

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这本《Quantitative EPR》的厚重感光是捧在手里就能感受到,扉页上密密麻麻的公式和图表,初看之下简直像一本天书。我本来是抱着学习新技术的期待来的,想深入了解一下电子顺磁共振(EPR)的定量分析方法。然而,前几章的内容深入到了数学物理的层面,涉及到大量矩阵代数和量子力学的基础回顾,这对我这个更偏向于化学实验操作的人来说,着实有些吃力。作者似乎默认读者已经具备了非常扎实的理论基础,对于那些只想快速掌握实验设置和数据处理的工程师或者初级研究人员来说,恐怕会感到挫败。我花了大量时间去啃那些关于张量表示和哈密顿量算符推导的部分,感觉自己更像是在重温大学高年级的物理课,而不是在学习一本实用的技术手册。书中的案例分析虽然详细,但多是针对特定体系的简化模型,对于我目前正在研究的复杂生物大分子体系,其直接指导意义有限,需要我进行大量的二次推导和模型适配,这无疑增加了我的研究难度和时间成本。整体而言,它更像是一部为理论物理学家量身定做的、对EPR原理进行数学化、符号化表达的深度专著,而非一本面向广泛应用领域的研究指南。

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