Optical Methods of Measurement

Optical Methods of Measurement pdf epub mobi txt 电子书 下载 2026

出版者:
作者:Sirohi, Rajpal S.
出品人:
页数:290
译者:
出版时间:
价格:1119.00 元
装帧:
isbn号码:9781574446975
丛书系列:
图书标签:
  • 光学测量
  • 光学技术
  • 测量方法
  • 物理学
  • 工程学
  • 仪器仪表
  • 光学传感器
  • 精密测量
  • 实验技术
  • 光度学
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具体描述

好的,以下是一份关于一本名为《Advanced Nanoscale Characterization Techniques》的图书简介,该书不包含《Optical Methods of Measurement》的内容,并且力求内容详实、专业,避免使用任何明显的AI痕迹。 --- 图书简介:《Advanced Nanoscale Characterization Techniques》 导言:探索亚微米世界的精确观测 在材料科学、半导体物理、生物工程以及催化剂研发等前沿领域,对物质在纳米尺度下的结构、成分、形貌和动态行为进行精确表征已成为推动技术革命的核心要素。随着纳米技术的飞速发展,传统表征手段的局限性日益凸显。本书《Advanced Nanoscale Characterization Techniques》正是为满足这一迫切需求而编写的一部深度专业著作。 本书系统性地汇集了当前最尖端、最成熟的纳米尺度材料表征技术,从基础原理到实际操作,再到数据解析的复杂性,进行了全面而深入的探讨。其核心目标是为研究人员、高级工程师以及研究生提供一套全面的工具箱,用以驾驭那些在百纳米乃至亚纳米级别上展现出宏观行为差异的复杂体系。本书的叙述风格严谨、注重技术细节,旨在成为相关领域工程师和研究人员案头必备的参考手册。 --- 第一部分:电子束成像与光谱学基础(Electron Beam Imaging and Spectroscopy) 本部分聚焦于目前纳米表征领域中应用最广泛、影响力最大的电子显微镜技术,并深入剖析了与其紧密结合的光谱分析方法。 第1章:高分辨透射电子显微镜(HR-TEM)的最新进展 详细阐述了球差校正透射电子显微镜(Aberration-Corrected TEM, AC-TEM)的硬件配置、成像原理及其在原子尺度结构解析中的关键作用。重点讨论了如何通过优化电子束参数(如会聚角、色差校正)来最小化成像畸变,并展示了其在解析晶格缺陷、晶界结构以及单原子催化位点方面的案例。此外,本章还涉及了低剂量成像技术(Low-Dose Imaging)在保护敏感材料(如有机物和生物样品)结构完整性方面的应用与挑战。 第2章:扫描电子显微镜(SEM)的场发射与低压操作 区别于传统的钨灯丝SEM,本章着重分析了冷场发射枪(Cold Field Emission Gun, CFEG)和单极子/双极子枪在提供极高空间分辨率和亮度的同时,如何通过精确控制束流与样品表面的相互作用区域来优化成像对比度。深入探讨了在低加速电压(< 5 kV)下,利用背散射电子(BSE)和二次电子(SE)的差异性,实现对材料表面形貌和成分(通过Z对比度)的无损、高灵敏度分析。 第3章:能量色散X射线光谱(EDS)与电子能量损失谱(EELS)的定量分析 本章是电子显微学与元素分析的交叉点。EDS部分不仅涵盖了主流的薄膜定量分析方法(如ZAF校正),更侧重于探讨如何通过先进的3D EDS(例如通过倾斜扫描)重建样品内部元素分布。EELS部分则深入解析了核心边(Core-Loss)和价带(Valence-Loss)谱的物理意义,详细介绍了如何利用电子能量损失谱来确定元素的价态、配位数以及局部电子态密度,这是区分不同化学环境(如氧化物表面与体相)的关键技术。 --- 第二部分:表面形貌与力学性能探针(Surface Topography and Mechanical Probing) 此部分涵盖了对材料表面三维形貌的精细测量以及在微纳米尺度下力学性能的直接评估技术。 第4章:原子力显微镜(AFM)的多模式成像与谱学应用 详细介绍了AFM的接触模式、轻敲模式和高频振荡模式的精确控制机制。重点突出了非成像功能的应用,包括: 纳米机械性能映射: 利用力曲线(Force Curve)分析和定量形貌学(Quantitative Imaging, QI)模式,精确测量局部杨氏模量和粘附力分布。 电学和磁学探测: 深入探讨了开针电压(KPFM)和磁力显微镜(MFM)的原理,如何用于表征半导体表面功函数变化和磁畴结构。 液体环境与活体应用: 阐述了在非真空环境下进行生物分子或湿润材料表征的技术挑战与解决方案。 第5章:探针纳米压痕技术与原位测试 本章聚焦于材料的微纳尺度力学行为。详细分析了压痕硬度(Indentation Hardness)和断裂韧性(Fracture Toughness)的加载-卸载速率依赖性。关键内容包括:对 Berkovich 压头几何形状的精确校准、Oliver-Pharr 模型的应用与局限性。此外,本书还探讨了与同步载荷(如热载荷或电场)相结合的原位(In-Situ)压痕实验,用于研究材料在极端条件下的微观塑性变形机制。 --- 第三部分:X射线与同步辐射技术(X-ray and Synchrotron Radiation Techniques) 本部分着眼于利用高穿透性和可调谐性的X射线技术,进行材料的晶体结构、应力分析和化学态探测。 第6章:粉末/薄膜X射线衍射(XRD)的高级应用 超越常规的相鉴定,本章着重于先进的衍射技术。详细讲解了高角度环化X射线衍射(High-Angle Ring Diffraction)在分析纳米颗粒尺寸分布和晶格畸变方面的应用。对于薄膜体系,深入分析了掠射角衍射(Grazing Incidence Diffraction, GID)如何用于精确确定膜层厚度、晶体取向和残余应力分布,特别是对于原子层沉积(ALD)薄膜的界面分析。 第7章:同步辐射光源下的X射线吸收谱(XAS) 作为研究局部原子结构和化学环境的强大工具,XAS(包括XANES和EXAFS)在纳米材料中具有不可替代的作用。本章详述了同步辐射光源的优势,如何通过调节入射X射线能量来激发特定元素的吸收边。重点阐述了: 近边吸收结构(XANES): 用于确定元素的价态和配位几何。 扩展边精细结构(EXAFS): 用于计算精确的键长和配位数,对非晶态或高度无序的纳米结构尤为关键。 --- 第四部分:动态过程与新型探测(Dynamic Processes and Emerging Probes) 本部分探讨了如何捕捉纳米尺度下的瞬态行为以及新兴的、多维度的表征技术。 第8章:脉冲激光沉积(PLD)与原位(In-Situ)电子/离子束研究 本章关注材料生长过程的实时监控。详细描述了如何将高能粒子束(电子或离子)或超快激光脉冲与先进的真空环境耦合,以在纳秒乃至皮秒级别上捕获相变、表面重构或电荷转移事件。通过结合实时电子衍射或瞬态吸收光谱,实现对动态过程的“时间快照”记录。 第9章:聚焦离子束(FIB)辅助下的三维层析成像(Tomography) FIB在纳米材料制备中扮演着至关重要的角色。本章详细介绍了FIB/SEM和FIB/TEM联用技术,特别是在实现材料的三维重构方面。内容包括:精确的层层加工(Layer-by-Layer Milling)策略、对比度增强技术(如Pt/Ga沉积),以及如何利用体数据(Volume Data)重建复杂的纳米孔隙网络、多相材料的界面拓扑结构,从而为传质、电荷传输等功能研究提供几何基础。 --- 结语 《Advanced Nanoscale Characterization Techniques》不仅是对现有技术的梳理,更是一本面向未来的指南。它强调了多技术融合(Multimodal Characterization)的重要性,即通过交叉验证和互补数据分析,构建对纳米系统最完整、最可靠的理解。本书深入浅出地剖析了每种技术的核心挑战与突破方向,旨在培养读者批判性地评估实验数据和设计复杂表征方案的能力。

作者简介

目录信息

读后感

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用户评价

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我不得不承认,这本书的内容深度远超出了我最初的预期,它更像是为研究生阶段的深入研究准备的参考资料,而不是一本入门读物。特别是关于偏振光在各向异性材料中传播特性的章节,内容详尽得令人咋舌,涉及到了琼斯矩阵和穆勒矩阵的复杂运算,以及如何利用这些工具来表征应力、双折射等微观结构。我过去在处理这些问题时,总是依赖于软件工具的“黑箱”操作,而这本书迫使我回溯到最底层的物理原理,理解了每个计算背后的物理意义。作者在处理像相位测量干涉法(PIM)这类前沿技术时,展现了惊人的驾驭能力,他不仅介绍了技术的原理,还深入探讨了不同算法(如载波法、时域展开法)的优缺点和适用场景。这种深入到算法层面的分析,对于需要开发定制化测量系统的技术人员来说,是无价之宝。这本书的阅读过程,与其说是学习,不如说是一种智力上的“攀登”,每攻克一个章节,都会带来巨大的成就感,同时也让人对光测技术的广阔领域感到敬畏。

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从一个工业应用的角度来看,《Optical Methods of Measurement》这本书的实用性极强,因为它没有沉溺于纯理论的构建,而是紧密围绕着“如何解决实际问题”这一核心。我特别喜欢它在介绍各种光学传感器的章节中,所采用的对比分析方法。比如,它会并列讨论基于光纤的传感器与基于透镜的传感器在抗环境干扰性、成本和测量范围上的差异,这对于项目决策者来说,提供了清晰的权衡标准。书中对于工业无损检测(NDT)中常用的激光散斑干涉和全息干涉技术,进行了非常详尽的论述,并且提供了大量的实际缺陷检测案例。这种将学术理论与工厂车间需求无缝对接的能力,是很多同类书籍所欠缺的。我发现,书中对于测量系统的可靠性、长期稳定性以及维护策略的讨论,体现了作者极高的工程成熟度。它教你的不仅是“如何测量”,更是“如何建立一套能够长期、稳定运行的测量系统”。这本书无疑是我书架上最常被翻阅的一本,它的参考价值,会随着我专业经验的增长而不断提升。

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这本书的排版和插图质量,老实说,在同类技术专著中算是顶级的了。我是一个对视觉呈现要求较高的人,很多技术书籍内容很好,但图表模糊不清,阅读体验极差。然而,《Optical Methods of Measurement》在这方面做得非常出色。无论是布拉格衍射的示意图,还是精密干涉条纹的采集曲线,都清晰锐利,层次分明。尤其要称赞的是,作者在讨论动态测量和实时成像技术时,所配的案例图,不仅展示了最终结果,还细致地标示了数据采集和处理的流程框图。这对于我们这些需要快速将理论应用于自动化生产线的工程师来说,是莫大的福音。它让你清楚地知道,从光源发出光束到最终屏幕上呈现测量值,中间每一个电子和光学环节是如何协同工作的。更重要的是,书中对误差分析和不确定度评估的论述,极其审慎和全面。作者没有给我们提供一个“完美”的测量模型,而是坦诚地剖析了在真实世界中,温度漂移、机械振动等因素对光学测量的影响,并提供了详尽的校准和补偿策略。这种务实的态度,让这本书真正成为了一本可以信赖的“实战手册”。

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这本《Optical Methods of Measurement》简直是为那些醉心于光电世界、渴望将抽象理论转化为实际测量工具的工程师和研究人员量身打造的宝典。我尤其欣赏作者在开篇部分对基础光学原理的梳理,那份细致入微,绝非应付了事。他没有满足于教科书式的简单罗列,而是巧妙地将几何光学与波动光学的核心概念编织在一起,为后续复杂仪器的介绍打下了无比坚实的理论基础。读到关于干涉仪如何精确丈量微小位移的那几章时,我仿佛能亲手触摸到光的波前,理解那些纳米级别的精度是如何通过精妙的光路设计实现的。书中对傅里叶光学在图像处理中的应用也有深入的探讨,这一点对于当前依赖机器视觉的精密制造领域来说,简直是及时雨。那些复杂的数学公式和理论推导,被作者用非常清晰的图示和实际案例辅助说明,即便是初次接触这些领域的读者,也能循着他的思路逐步深入。可以说,这本书不仅是一本工具书,更像是一位经验丰富的老教授,在你身边耐心讲解,引导你跨越从原理到实践的鸿沟。它对实验细节的关注程度令人印象深刻,每一个参数的选取、每一个误差来源的分析,都体现了作者深厚的工程实践功底。

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坦白讲,我对这种偏向硬核技术的书籍通常抱持着谨慎的态度,生怕内容过于陈旧或晦涩难懂,但《Optical Methods of Measurement》彻底颠覆了我的这种刻板印象。它的内容组织极具逻辑性和前瞻性。作者似乎有一种魔力,能将看似枯燥的光谱分析技术,描述得如同侦探小说般引人入胜。书中对于拉曼光谱和荧光光谱在材料科学中的应用案例分析得尤为透彻。我特别关注了关于非线性光学测量技术的部分,作者没有回避其固有的复杂性,反而选择用一种层层递进的方式,从基础的二阶、三阶非线性效应讲起,逐步过渡到实际的超快现象测量。这种叙事结构极大地减轻了读者的认知负担。而且,书中对现代传感器的集成和应用有着独到的见解,它不只是停留在“如何测量”的层面,更延伸到了“如何构建智能、实时的测量系统”。阅读过程中,我常常停下来,对照我手头上正在进行的项目,寻找可以借鉴的创新点。这本书的价值,在于它成功地在基础科学的严谨性和工程应用的创新性之间找到了一个完美的平衡点,让人读完后有一种醍醐灌顶、茅塞顿开的感觉,仿佛自己对光学的理解又上升到了一个新的维度。

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豆瓣居然会有这种书。。。

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