新型彩色显示器原理与检修

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出版者:
作者:沈大林 编
出品人:
页数:253
译者:
出版时间:2002-7
价格:20.80元
装帧:
isbn号码:9787040108996
丛书系列:
图书标签:
  • 显示器
  • 彩色显示器
  • 原理
  • 检修
  • 电子技术
  • 显示技术
  • 维修
  • 故障诊断
  • 新型显示
  • 技术手册
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具体描述

《新型彩色显示器原理与检修》根据2001年8月教育部颁发的中等职业学校重点建设专业(电子电器应用与维修专业)教学指导方案编写。同时参考了有关行业的职业技能鉴定规范及中级技术工人等级考核标准。

《新型彩色显示器原理与检修》主要介绍了多频显示器的基本工作原理和检修技巧。重点介绍了自动行频切换控制、自动S校正电容切换、自动行幅控制、自动行相位控制、动态聚焦、倾斜校正等电路的工作原理与故障检修。

《新型彩色显示器原理与检修》可作为中等职业学校电子电器应用与维修、电子技术应用专业的“显示器原理与维修”课程教材,也可用于岗位培训和自学。

好的,这里为您创作一份图书简介,聚焦于其他与显示技术、彩色理论、电子设备维护等相关领域,完全避开“新型彩色显示器原理与检修”这一主题。 --- 《先进半导体材料的界面物理与器件应用》 第一部分:前沿材料的微观结构与表征 本书深入探讨了当前半导体技术前沿领域中,如二维材料、钙钛矿以及新型 III-V 族化合物等先进材料的微观结构、晶体缺陷特性及其界面行为。重点分析了原子尺度上材料的电子态密度、能带结构调控机制,以及这些结构特征如何影响器件的宏观电学性能。 1. 界面电子结构调控: 详细阐述了异质结界面处应力、应变对载流子传输特性的影响。通过密度泛函理论(DFT)计算方法,模拟了不同界面钝化层对陷阱态密度(Trap State Density)的抑制效果。内容涵盖了界面态的形成机理、缺陷工程在优化界面性能中的应用,以及如何利用原子层沉积(ALD)技术实现超薄界面层的精确控制。 2. 缺陷工程与载流子动力学: 分析了半导体材料中点缺陷、线缺陷(位错)和面缺陷(晶界)的形成能、迁移率及其对器件寿命的制约。书中引入了先进的瞬态光电导(TRPL)和时间分辨光电发射电子显微镜(TR-PEEM)技术,用以追踪和量化材料内部载流子的产生、复合与弛豫过程,特别关注了载流子在复杂晶格结构中的散射机制。 3. 先进表征技术解析: 详尽介绍了高分辨率透射电子显微镜(HR-TEM)在原子分辨成像中的应用,以及同步辐射X射线吸收谱(XAS)和X射线光电子能谱(XPES)如何揭示材料表面的化学态和价态信息。针对新型光电转换材料,书中还收录了电荷收集效率(CCE)测定的实验规范。 第二部分:新型电子器件的能效设计与优化 本部分聚焦于如何将这些先进材料集成到高性能、低功耗的电子器件中,特别是新型传感器、存储器和功率器件的设计哲学。 1. 忆阻器(Memristor)与非挥发性存储器: 深入剖析了基于金属氧化物或导电桥接(CBRAM)忆阻器的开关机制。内容包括电荷注入机制、电阻漂移现象的物理根源,以及如何通过电学和热学联合调控实现高可靠性的多比特存储。详细介绍了忆阻器阵列的交叉点开关(X-point switching)问题及解决方案。 2. 高频/高功率晶体管设计: 探讨了碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等宽禁带半导体在功率电子领域的应用。重点讨论了高电子迁移率晶体管(HEMT)中的二维电子气(2DEG)的形成、通道限制效应,以及如何设计肖特基接触以降低导通电阻($R_{ ext{on,sp}}$)和实现高击穿电压。书中还包含对热管理挑战的仿真分析。 3. 仿生类脑计算架构: 介绍了利用忆阻器、铁电隧道结(FEFET)等模拟计算单元构建神经突触模型。阐述了权重更新(STDP)算法在硬件层面的实现,以及如何设计低功耗、高并行度的脉冲神经网络(SNN)加速器。此部分强调了器件物理特性如何直接映射到生物神经元的工作模式。 第三部分:光电器件的载流子传输与能量转换 此部分将视角转向光电领域,阐述了新型半导体在光捕获、载流子分离与收集中的作用,重点关注高效率光伏电池和光探测器。 1. 钙钛矿太阳能电池的稳定性与界面工程: 全面分析了有机-无机杂化钙钛矿材料的潜在优势与固有缺陷(如光照、湿度敏感性)。书中详细剖析了离子迁移如何导致迟滞效应(Hysteresis),并提出了通过表面配体工程、空穴/电子传输层优化来钝化晶界和界面缺陷的策略,以期达到长期运行的稳定性要求。 2. 高速光电探测器的工作原理: 探讨了基于异质结构和量子点结构的光电二极管在可见光、近红外甚至太赫兹波段的响应机制。分析了暗电流的来源、量子效率(EQE)的提升途径,以及如何通过优化吸收层厚度与电场分布,最大化光生载流子的分离效率,从而提高探测器的信噪比(SNR)。 3. 器件的可靠性与寿命预测: 针对新兴光电器件(如LED、光伏电池),系统介绍了加速老化测试方法(如高温高湿、偏压应力)。通过阿伦尼乌斯(Arrhenius)模型和威布尔(Weibull)分布,建立器件降解的物理模型,指导工程实践中的寿命预测和质量控制。 总结: 《先进半导体材料的界面物理与器件应用》是一本面向专业研究人员、高级工程师和相关专业高年级学生的参考专著。它建立在扎实的固体物理和半导体器件物理基础之上,将最新的实验发现与前沿的理论计算相结合,旨在提供一个深入理解材料与器件性能之间桥梁的综合视角。本书力求在材料科学的微观视角与工程应用的宏观目标之间架设清晰的逻辑链条,推动下一代电子信息技术的发展。

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用户评价

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这本书在处理“故障排查与维修”这部分内容时,展现出一种极强的实战导向性,这对于一线技术人员来说是至关重要的。作者没有采用那种空泛的“总而言之,检查电源”的套路,而是细致地列举了数百种可能出现的显示异常现象,并为每一种现象提供了从宏观到微观的系统化诊断流程。例如,书中对“垂直亮线”的分析,不仅区分了是T-CON板、驱动IC还是像素电极层面的问题,还提供了不同品牌、不同代际面板对应的典型故障点对比表格。这种细致入微的区分度,体现了作者丰富的现场经验。我个人特别喜欢它在附录中加入的“常用测试信号图谱”和“关键芯片型号对照表”,这些资料查阅起来非常方便,直接提高了工作效率。唯一的不足是,由于显示技术迭代速度极快,书中关于软件校准工具的介绍,有几款较新的专业级软件尚未被囊括进去,这使得其在面向尖端实验室环境的应用参考性上略显滞后。

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当我真正沉浸到内容中时,感受到了作者在知识体系构建上的深厚功力。这本书的逻辑脉络清晰得像一张精确绘制的电路图,从最基础的光学原理、色彩学基础讲起,层层递进,直到深入到当前主流显示技术的底层驱动架构。特别值得称赞的是,作者在阐述“人眼视觉与显示效果的关联”这一部分时,采用了非常新颖的跨学科视角。他不仅仅停留在技术参数的罗列上,而是巧妙地将心理物理学的实验结果引入进来,解释了为什么某些色域标准(如DCI-P3或Rec. 2020)被确立,以及它们如何影响最终的观看体验。这种将“硬核技术”与“软性感知”相结合的叙事方式,极大地提升了阅读的深度和趣味性。当然,在讨论到新兴的Micro-LED技术时,部分内容似乎停留在理论推演阶段,缺乏近期工业界突破性的实际应用案例作为支撑,这使得那一章节的实战价值稍稍打了折扣,让人期待后续版本能够补充最新的工厂数据和量产挑战的分析。

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从语言风格上来说,这本书的文字精准、克制,带着一股浓厚的工程师气质,但又巧妙地避免了过度专业术语的堆砌,使得技术阐述既严谨又不失可读性。作者的叙述节奏控制得非常好,在需要详细展开的理论节点上,他会放慢速度,通过类比和设问句引导读者思考;而在涉及标准化流程的部分,文字则变得精炼高效,直接给出操作步骤。我印象最深的是关于“像素老化”这一章节,作者没有简单地将其归咎于材料衰减,而是深入探讨了驱动电流波动与漏电机制之间的复杂耦合关系,用近乎学术论文的严谨性来剖析一个日常可见的现象,这种学术深度让人不得不佩服。当然,如果能在某些复杂电路分析图旁边,增加一些作者本人的手写批注(即使是模拟的),或许能增添几分人情味和亲切感,打破技术书籍略显冰冷的面貌。

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这本书的装帧设计倒是挺有意思,封面采用了大胆的撞色搭配,初看之下有些突兀,但细品之下又觉别有一番匠心。内页纸张的选择也比较考究,触感细腻,印刷清晰,这对于技术类书籍来说无疑是个加分项。我尤其欣赏它在章节排版上的用心,图文并茂的布局使得复杂的原理介绍不再显得那么枯燥乏味。比如,在介绍某些液晶分子排列机制时,作者引用了大量精细的剖面图和动态示意图,即使是初次接触这个领域的读者,也能通过直观的视觉引导快速把握核心概念。书中对某些关键术语的解释也做得相当到位,通常会附带一个专门的“名词解析”框,用更通俗易懂的语言进行阐述,这大大降低了阅读门槛。整体而言,从物理层面上来说,这本书的制作水平是值得肯定的,体现出一种对阅读体验的尊重。不过,我也注意到一个细节,扉页附近对全彩显示技术发展历程的简述部分,似乎略显仓促,如果能再增加一些关键人物的访谈片段或者里程碑事件的深入剖析,想必会更具吸引力。

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这本书的价值,我认为远超出了单纯的教科书范畴,它更像是一本全面覆盖了从基础物理到工程实践的“技术百科全书”。它成功地平衡了历史回顾、当前主流技术剖析以及未来趋势展望这三个维度。在展望未来显示技术(比如柔性OLED和量子点增强膜)时,作者表现出了极高的洞察力,他不仅描述了技术优势,更坦诚地指出了其在成本控制、寿命保证和供应链稳定方面的潜在瓶颈。这种客观、不偏不倚的论述态度,构建了极高的可信度。总而言之,它不是那种读完后让你立刻能修好任何一台设备的书,但它提供了理解“为什么”会出问题以及“如何系统性地”找到解决方案的底层逻辑框架,这种底层能力的培养,才是此类专业书籍最宝贵的财富。唯一希望的是,未来的修订版能增加更多关于供应链管理和知识产权格局对技术路线选择影响的讨论,将视角拓展到产业经济层面。

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