《模擬電路版圖的藝術》（第2版）以實用和權威性的觀點全麵論述瞭模擬集成電路版圖設計中所涉及的各種問題及目前的最新研究成果。書中介紹瞭半導體器件物理與工藝、失效機理等內容；基於模擬集成電路設計所采用的3種基本工藝：標準雙極工藝、CMOS矽柵工藝和BiCMOS工藝，重點探討瞭無源器件的設計與匹配性問題，二極管設計，雙極型晶體管和場效應晶體管的設計與應用，以及某些專門領域的內容，包括器件閤並、保護環、焊盤製作、單層連接、ESD結構等；最後介紹瞭有關芯片版圖的布局布綫知識。
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用戶評價
有些名詞翻譯得很拗口，比如中心的基區擴散區是發射區，周圍環狀的基區擴散區是集電區，還有溝道終止，隔離島，襯底去偏置等等，建議看原版可能更容易理解些。 另外，畢竟有些久瞭，和現在的商業應用的工藝有些區彆瞭，大部分是BJT，常規MOS的內容不是很多，偏嚮工藝方嚮。
评分有些名詞翻譯得很拗口，比如中心的基區擴散區是發射區，周圍環狀的基區擴散區是集電區，還有溝道終止，隔離島，襯底去偏置等等，建議看原版可能更容易理解些。 另外，畢竟有些久瞭，和現在的商業應用的工藝有些區彆瞭，大部分是BJT，常規MOS的內容不是很多，偏嚮工藝方嚮。
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评分正在看，好像有一個錯誤在第一章裏麵講PN結的地方 後麵就沒有看瞭，做FAB的朋友可以去看看 因為我是EOL得測試，裏麵看不懂
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