Handbook of Photomask Manufacturing Technology pdf epub mobi txt 电子书下载 2026

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出版者:Marcel Dekker Inc

作者:Rizvi, Syed 编

出品人:

页数:728

译者:

出版时间:2005-3

价格:$ 237.24

装帧:HRD

isbn号码:9780824753740

丛书系列:

图书标签:

Photomask
Manufacturing
Lithography
Semiconductor
Microfabrication
Photolithography
Mask Technology
Integrated Circuits
Microelectronics
Patterning

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具体描述

As the semiconductor industry attempts to increase the number of functions that will fit into the smallest space on a chip, it becomes increasingly important for new technologies to keep apace with these demands. Photomask technology is one of the key areas to achieving this goal. Although brief overviews of photomask technology exist in the literature, the Handbook of Photomask Manufacturing Technology is the first in-depth, comprehensive treatment of existing and emerging photomask technologies available. The Handbook of Photomask Manufacturing Technology features contributions from 40 internationally prominent authors from industry, academia, government, national labs, and consortia. These authors discuss conventional masks and their supporting technologies, as well as next-generation, non-optical technologies such as extreme ultraviolet, electron projection, ion projection, and x-ray lithography. The book begins with an overview of the history of photomask development. It then demonstrates the steps involved in designing, producing, testing, inspecting, and repairing photomasks, following the sequences observed in actual production. The text also includes sections on materials used as well as modeling and simulation. Continued refinements in the photomask-making process have ushered in the sub-wavelength era in nanolithography. This invaluable handbook synthesizes these refinements and provides the tools and possibilities necessary to reach the next generation of microfabrication technologies.

好的，这是一本关于先进材料科学与工程的综合性手册的简介，旨在涵盖材料的结构、性能、制备、表征以及在现代工程应用中的前沿进展。这本书籍面向材料科学家、工程师、研究人员以及高年级本科生和研究生，提供了一个深入且全面的知识框架。 --- 先进材料科学与工程：基础理论、前沿技术与应用实践本书概述《先进材料科学与工程》是一部详尽的参考指南，系统性地梳理了跨越无机、有机、高分子、复合材料、纳米材料等多个领域的关键科学原理和工程应用。本书的核心目标是弥合基础科学研究与工业化制造之间的知识鸿沟，重点聚焦于如何通过精确控制材料的微观结构来调控其宏观性能，并探讨这些新材料在能源、电子、生物医学和航空航天等战略性领域中的变革性潜力。全书结构严谨，从材料的基本热力学和动力学原理出发，逐步深入到特定材料体系的复杂行为和先进制造工艺。它不仅回顾了经典理论，更突出了近二十年来材料科学领域取得的突破性进展，特别是基于第一性原理计算的材料设计方法以及高精度原位表征技术的应用。第一部分：材料科学基础与结构-性能关系本部分奠定了理解先进材料行为的理论基石。第一章：晶体结构与缺陷工程深入探讨晶格对称性、布拉维点阵及其在金属、陶瓷中的排列。重点解析点缺陷（如空位、间隙原子）、线缺陷（位错）和面缺陷（晶界）对材料力学、电学和光学性能的决定性影响。引入“缺陷工程”的概念，阐述如何通过控制热处理和掺杂来优化材料的性能。第二章：热力学与相变动力学详述材料体系的相图构建与解析，包括吉布斯相律的应用。重点讨论固态相变过程，如析出、再结晶和晶粒长大，利用热力学驱动力和动力学阻力来预测和控制材料的微观结构演化。对非平衡态热力学在快速凝固和薄膜生长中的应用进行了详尽分析。第三章：电子结构与能带理论从量子力学的角度解释材料的导电性、半导体制备机理和介电特性。详细阐述能带结构、费米能级、有效质量等概念，并将其与材料的宏观电学行为联系起来。特别关注掺杂对半导体性能的调控以及新型二维材料的电子特性。第二部分：核心材料体系的深度解析本书将精力集中在当前最具工业影响力的几大材料类别上，解析其特有挑战与机遇。第四章：金属合金的先进设计与加工超越传统的铁碳合金，本书聚焦于高熵合金（HEA）、形状记忆合金（SMA）以及先进轻质合金（如铝锂合金、镁合金）的微观组织控制。讨论位错-第二相粒子相互作用、相分离诱导的强化机制，以及增材制造（Additive Manufacturing, AM）对金属材料微观结构各向异性的影响。第五章：工程陶瓷与玻璃涵盖结构陶瓷（如氮化硅、碳化硅）的超高硬度、耐高温特性及其断裂韧性的提升策略（如纤维增韧、裂纹偏转）。深入分析功能性陶瓷（如铁电、压电材料）的极化机制和界面效应。在玻璃部分，着重探讨玻璃-陶瓷的精密烧结过程和新型光纤材料的制备。第六章：高分子与软物质材料系统阐述高分子的结构（链长、拓扑结构、结晶度）与其机械性能、粘弹性行为的关系。重点介绍功能化高分子，如导电聚合物、生物可降解聚合物和形状记忆聚合物的合成方法。对液晶态、胶体系统和高分子复合材料的界面行为有深入的讨论。第七章：功能性复合材料与界面科学探讨纤维增强复合材料（FRC）、颗粒增强复合材料的设计准则。核心关注点在于增强相与基体之间的界面粘结强度、界面反应的控制，以及如何通过界面工程来优化复合材料的疲劳寿命和损伤容限。引入纳米增强效应在复合材料中的实现途径。第三部分：纳米科学、制造与表征前沿本部分关注材料科学的“尺度效应”和先进的制造与分析工具。第八章：纳米材料的制备与量子效应详细介绍量子点、纳米线、石墨烯及其衍生物（如石墨烯氧化物）的制备技术，包括化学气相沉积（CVD）、溶液合成法和自下而上（Bottom-up）方法。讨论尺寸效应如何改变材料的光学、催化和电子特性，特别是量子限制效应和表面效应的主导作用。第九章：先进制造技术与过程控制聚焦于突破传统冶金和化学合成限制的先进制造技术。详细描述增材制造（选区激光熔化SLM、电子束熔化EBM）中的残余应力控制和晶粒结构重构。讨论薄膜技术（如原子层沉积ALD、溅射）中对厚度和化学计量比的亚纳米级控制。第十章：材料的同步与原位表征技术强调先进表征手段在理解动态过程中的关键作用。深入讲解同步辐射光源在结构解析中的应用，包括X射线吸收精细结构（XAFS）和高分辨X射线衍射（HRXRD）。详细介绍原位（In-situ）和准原位（Operando）电镜技术（TEM/SEM）在观察材料在真实工作条件（如加热、受力、电化学反应）下微观结构演变的方法学。第十一-十章：应用驱动的材料创新最后一部分将理论和技术与关键应用领域结合起来：能源存储材料：锂离子电池电极材料的界面副反应、固态电解质的离子传导机制、燃料电池催化剂的设计优化。生物医用材料：组织工程支架的生物相容性设计、生物活性涂层、植入物表面的抗感染与促愈合策略。光电子与信息存储：铁磁性材料的斯格明子（Skyrmion）动力学、钙钛矿太阳能电池的缺陷钝化技术、高密度磁记录介质的制备。本书力求通过严谨的科学论述、丰富的案例分析和详尽的图表说明，为读者提供一个掌握当代材料科学与工程领域核心知识和未来发展方向的权威性平台。