Micro Electro Mechanical System Design pdf epub mobi txt 电子书下载 2026

简体网页||繁体网页

☆☆☆☆☆

出版者:Marcel Dekker Inc

作者:Allen, James J.

出品人:

页数:496

译者:

出版时间:2005-7

价格:$ 203.34

装帧:HRD

isbn号码:9780824758240

丛书系列:

图书标签:

MEMS
微机电系统
设计
传感器
执行器
微纳技术
集成电路
建模仿真
材料科学
工程应用

下载链接在页面底部

facebook linkedin mastodon messenger pinterest reddit telegram twitter viber vkontakte whatsapp 复制链接

想要找书就要到图书目录大全

book.wenda123.org

立刻按 ctrl+D收藏本页

你会得到大惊喜!!

具体描述

It is challenging at best to find a resource that provides the breadth of information necessary to develop a successful micro electro mechanical system (MEMS) design. "Micro Electro Mechanical System Design" is that resource. It is a comprehensive, single-source guide that explains the design process by illustrating the full range of issues involved, how they are interrelated, and how they can be quickly and accurately addressed. The materials are presented in logical order relative to the manner a MEMS designer needs to apply them.For example, in order for a project to be completed correctly, on time, and within budget, the following diverse yet correlated issues must be attended to during the initial stages of design and development: understanding the fabrication technologies that are available; recognizing the relevant physics involved for micron scale devices; considering implementation issues applicable to computer aided design; focusing on the engineering details and the subsequent evaluation testing; and, maintaining an eye for detail regarding both reliability and packaging. These issues are fully addressed in this book, along with questions and problems at the end of each chapter that promote review and further contemplation of each topic. In addition, the appendices offer information that complement each stage of project design and development.

好的，这是一本关于“光刻与微纳加工技术”的图书简介，完全不涉及“微机电系统设计（MEMS Design）”的内容。图书名称：光刻与微纳加工技术：原理、设备与先进应用图书简介本书深入系统地阐述了现代光刻技术与微纳加工领域的全景图，旨在为光电子学、半导体制造、生物医学工程以及先进材料科学等领域的专业人士、研究人员和高年级学生提供一套全面且实用的技术参考与学习指南。本书的重点在于解析光刻过程的物理化学基础、关键设备的操作原理、以及如何将这些技术应用于制造具有特定功能和结构的微小尺度器件。第一部分：微纳加工基础与光刻原理本书伊始，首先为读者建立起微纳加工领域的宏观认知框架。我们详细探讨了微纳加工的基本概念、发展历程以及其在现代科技中的战略地位。 1.1 微纳加工基础概念：这一章节界定了微米、纳米尺度的概念，阐述了从宏观到微观尺度的尺度效应，并对比了干法加工与湿法加工的优劣性。特别强调了“自上而下”（Top-Down）和“自下而上”（Bottom-Up）两种主要的制造范式及其在不同应用场景下的适用性。 1.2 光刻技术的核心物理化学：光刻作为微纳制造的核心步骤，其原理的深刻理解至关重要。我们深入剖析了光刻的成像过程，包括光的衍射、干涉和夫琅禾费衍射理论在光刻分辨率限制中的作用。重点分析了瑞利判据在评估分辨率和工艺容差中的应用。 1.3 光刻胶材料科学：光刻胶是实现图案转移的关键介质。本书详细分类介绍了正性胶、负性胶的化学结构、曝光机制（自由基生成、交联反应、链断裂反应）以及显影过程中的溶解速率理论。此外，我们对先进的化学放大胶（Chemically Amplified Resists, CARs）的反应动力学进行了细致的数学建模和讨论，这对于深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻至关重要。第二部分：先进光刻设备与工艺流程本部分聚焦于光刻领域的核心“工具”——光刻机及其配套的辅助设备，并系统梳理了完整的工艺流程链。 2.1 步进式与扫描式光刻机原理：我们详细比较了接触式、接近式、投影式光刻机的演进历程。对于现代的步进式（Stepper）和扫描式（Scanner）光刻机，我们深入解析了其光学系统设计，包括物镜的数值孔径（NA）设计、掩模对准系统的精度要求以及对场曲和畸变的校正技术。 2.2 关键波长技术平台：本书对当前主流的波长平台进行了深入的技术剖析： g线/i线光刻（436nm/365nm）：及其在传统半导体和TFT制造中的应用。深紫外光刻（DUV，248nm/193nm）：重点讲解了浸没式光刻（Immersion Lithography）的物理机制，包括液滴光学特性、界面控制以及对像差的影响。极紫外光刻（EUV，13.5nm）：作为下一代技术，本书详细介绍了EEUV系统的关键挑战，包括反射式光学元件的镀膜技术（Mo/Si多层膜）、真空环境的要求、以及锡等离子体光源的产生与收集效率。 2.3 关键工艺环节的优化：光刻不仅仅是曝光，还包括前处理和后处理。我们详述了表面预处理（如HMDS涂覆）、光刻胶涂布（匀胶机原理）、软烘、曝光、后烘（PEB）、显影液选择与控制（如全浸式显影）等步骤对最终线宽均匀性和CD（Critical Dimension）控制的影响。第三部分：先进图案化技术与后处理为实现纳米尺度的复杂结构，光刻技术需要与其他加工手段协同工作。本部分着重于高精度图案转移和先进的辅助加工方法。 3.1 电子束光刻（EBL）：作为分辨率最高的直接刻写技术，我们剖析了电子枪的原理（热场发射、场致发射）、电子束的会聚与偏转系统，以及电子束胶（如PMMA）的曝光特性。重点讨论了“邻近效应”的校正算法，这是EBL在复杂图案中实现高精度的核心技术。 3.2 离子束加工与纳米雕刻：离子束技术（如FIB）不仅用于材料去除，还可用于高精度切割和缺陷修复。本书解释了离子源的类型（如液态金属离子源）、离子束的聚焦控制，以及溅射产额与材料去除率的计算。 3.3 刻蚀技术——图案转移的终极保障：刻蚀是将光刻胶图案转移到衬底材料上的关键步骤。干法刻蚀（反应离子刻蚀 RIE 与深反应离子刻蚀 DRIE）：详细阐述了等离子体的产生与特性，各向异性刻蚀的机理（如Bosh工艺），以及对侧壁钝化层（Passivation Layer）的控制。湿法刻蚀：讨论了化学选择性刻蚀的原理及其在各向同性轮廓控制中的应用。第四部分：新型光刻与未来展望为了突破传统衍射极限，许多替代性光刻技术正在快速发展。 4.1 纳米压印光刻（NIL）： NIL因其高分辨率和低成本潜力，被视为下一代制造技术的重要补充。我们阐述了模板的制作、抗压印胶的选择、精确的对准技术（Overlay）以及脱模过程中的粘附力控制。 4.2 X射线与软X射线光刻（SXL）：讨论了这些技术克服衍射限制的潜力，并分析了光源（如同步辐射源或激光等离子体源）和掩模（吸收掩模）设计上的工程挑战。 4.3 辅助技术与质量控制：最后，本书涵盖了在制造过程中至关重要的测量与检测技术，如扫描电子显微镜（SEM）中的CD测量、光刻胶厚度测量（椭偏仪）以及关键缺陷检测（CD-SEM）的成像原理，确保了微纳器件的制造质量和良率。本书结构严谨，内容详实，图文并茂，是光刻与微纳加工领域研究者与工程师不可多得的专业参考书。