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Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
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简体网页||繁体网页
Schmitz, John E. J. 作者
William Andrew Pub
译者
1993-1 出版日期
254 页数
$ 162.72 价格
HRD
丛书系列
9780815512882 图书编码

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发表于2024-11-10

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Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications 在线电子书 图书描述

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

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