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Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications 在線電子書 pdf 下載 txt下載 epub 下載 mobi 下載 2024

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
☆☆☆☆☆
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Schmitz, John E. J. 作者
William Andrew Pub
譯者
1993-1 出版日期
254 頁數
$ 162.72 價格
HRD
叢書系列
9780815512882 圖書編碼

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發表於2024-11-10

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Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications 在線電子書 圖書描述

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

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