This book examines in detail the basic properties and design, including chip integration, of CMOS and bipolar VLSI devices and discusses the various factors that affect their performance. The authors begin with a thorough review of the relevant aspects of semiconductor physics, and proceed to a description of the design of CMOS and bipolar devices. The optimization of these devices for VLSI applications is also covered. The authors highlight the intricate interdependencies and subtle tradeoffs between those device parameters, such as power consumption and packing density, that affect circuit performance and manufacturability. They also discuss in detail the scaling, and physical limits to the scaling, of CMOS and bipolar devices. The book contains many exercises, and can be used as a textbook for senior undergraduate or first-year graduate courses on microelectronics or VLSI devices. It will also be a valuable reference volume for practicing engineers involved in research and development in the electronics industry.
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这本书在理论深度和工程实践之间的平衡做得非常出色。作者并没有回避那些复杂的物理数学模型,但他在引入这些模型之前,都会先用通俗易懂的语言解释其背后的物理意义。例如,在讲解PN结的形成和载流子扩散时,他引入了大量的图示和类比,让初学者能够直观地理解。然后,他再逐步引入费米-狄拉克统计、泊松方程等数学工具,并详细推导了这些方程是如何描述PN结的电学特性的。我尤其欣赏书中关于器件仿真和建模的部分,作者介绍了SPICE(Simulation Program with Integrated Circuit Emphasis)等常用的仿真软件,并解释了器件模型是如何被用来预测器件在不同工作条件下的行为。他还讨论了不同复杂度的器件模型,以及在实际设计中如何权衡模型的精度和计算效率。书中还涉及了MOSFET的各种寄生效应,例如沟道长度调制、栅漏电容、体效应等等,并解释了这些效应是如何影响器件的性能,以及如何在电路设计中对其进行补偿。这些内容对于想要深入理解VLSI电路设计的人来说,是非常宝贵的。它不仅仅是教你“是什么”,更是教你“为什么”和“如何做”。
评分这本书在讲解器件的物理行为时,使用了大量精妙的比喻和类比,这对于理解复杂的半导体物理过程至关重要。例如,在解释载流子的运动时,作者将它们比作在迷宫中寻找出口的粒子,而电场则像是引导它们前进的引力。又比如,在描述半导体材料的能带结构时,他将其比作一个有不同高度楼层的建筑,电子就像住在这些楼层上的居民,只能在特定的楼层活动。这种生动形象的讲解方式,让那些原本抽象的物理概念变得容易理解和记忆。我尤其欣赏书中在讲解PN结电容效应时,将它类比于一个被拉伸的橡皮筋,其形变程度与施加的电压有关,从而直观地展示了结电容的变化规律。除了类比,书中丰富的图示和示意图也为理解复杂概念提供了极大的帮助,例如,不同工作模式下MOSFET内部的电场分布图,能带图的演变过程等,都让我对器件的工作原理有了更深刻的认识。它不仅是在传授知识,更是在培养读者的物理直觉和空间想象力。
评分不得不说,《Fundamentals of Modern VLSI Devices》在器件可靠性方面的内容,给我留下了深刻的印象。在许多教科书中,可靠性往往是被一带而过的章节,但在这本书中,作者花了相当大的篇幅来详细探讨。他深入分析了各种导致器件失效的物理机制,例如热载流子注入(Hot Carrier Injection)、栅介质击穿(Dielectric Breakdown)、电迁移(Electromigration)等等。作者并没有仅仅列出这些失效模式,而是详细解释了它们发生的根源、发生的条件以及对器件性能的影响。特别是他对不同失效机制的数学模型和预测方法进行了详细阐述,这对于理解和改善器件的长期稳定性至关重要。例如,在讲解栅介质击穿时,作者不仅解释了电场应力导致的介质材料原子键断裂,还讨论了如何通过材料选择、工艺控制来提高栅介质的可靠性。书中还提供了一些实际案例,说明了这些可靠性问题是如何在实际生产中被发现和解决的。对于一个正在学习VLSI设计的人来说,理解并掌握这些可靠性知识,能够帮助我们设计出更稳定、更耐用的电子产品。这本书让我意识到,仅仅实现器件的功能是不够的,保证其在各种环境下长期可靠地工作同样重要,而这往往是决定一个产品能否成功的关键因素。
评分刚拿到这本《Fundamentals of Modern VLSI Devices》,还以为是那种枯燥乏味的教科书,没想到翻开第一页就被深深吸引了。它的开篇并没有直接抛出晦涩难懂的公式和理论,而是以一种非常宏大的视角,讲述了集成电路发展的简史,以及VLSI(超大规模集成电路)在现代科技中扮演的至关重要的角色。作者并没有回避技术细节,但他是以一种非常清晰、循序渐进的方式呈现的,就像一位经验丰富的工程师在向初学者娓娓道来。我尤其喜欢它在介绍MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)的基本原理时,用了大量的类比和图示,将抽象的电场、沟道形成等概念具象化。例如,在讲解栅极电压如何控制导电沟道时,作者打了个比方,把栅极想象成一个水龙头的手柄,电压就是你转动水龙头的力度,而导电沟道就像水流,可以被精准地控制。这种生动形象的比喻,让我这个初学者瞬间茅塞顿开,不再被那些复杂的物理过程所困扰。而且,这本书不仅仅局限于理论的讲解,还穿插了大量的实际应用案例,比如在智能手机、高性能计算、人工智能芯片等领域,VLSI器件是如何工作的,它们面临的挑战以及未来的发展方向。这些案例的引入,让我看到了理论知识与实际工程之间的紧密联系,也激发了我对这个领域更深入探索的兴趣。它并没有教你如何去制造一颗芯片,但它能让你明白一颗芯片背后蕴含的科学原理,以及它如何改变我们的世界。我原本以为这会是一次艰苦的学习旅程,但这本书的易读性和趣味性,让我觉得学习本身就是一种享受。
评分这本书的理论严谨性和工程实用性完美结合,这是它最让我赞赏的一点。作者在阐述每一个器件原理时,都基于扎实的物理学基础,并辅以严谨的数学推导。然而,他并没有让读者迷失在复杂的公式海洋中,而是始终将理论与实际应用紧密联系。例如,在讲解CMOS逻辑门的工作原理时,作者不仅详细分析了PMOS和NMOS晶体管的开关特性,还通过举例说明了如何用它们构建出AND、OR、NOT等基本逻辑门,并进一步解释了全加器、触发器等更复杂的组合逻辑和时序逻辑电路是如何由这些基本门组成的。他还深入探讨了CMOS电路在功耗、速度和集成度方面的优势,以及在不同工艺节点下,这些优势是如何被实现的。书中还讨论了各种影响电路性能的因素,例如线延迟、耦合电容、衬底噪声等,并提供了相应的分析方法和设计技巧。这些内容对于任何想要从事VLSI设计的人来说,都是不可或缺的知识。它不仅仅是学习“器件”本身,更是学习“如何利用器件来构建高性能、低功耗的集成电路”。
评分《Fundamentals of Modern VLSI Devices》在介绍新型器件时,展现了其前瞻性和深刻的洞察力。作者并没有仅仅停留在对当前主流器件的描述,而是对未来VLSI技术的发展趋势进行了深入的探讨。例如,在讲解FinFET和GAAFET时,作者详细分析了这些三维器件结构是如何克服传统平面MOSFET在缩小尺寸时遇到的短沟道效应等问题的,并对其在低电压、低功耗应用中的潜力进行了展望。书中还对一些更具未来感的器件概念进行了初步的介绍,例如量子点器件、碳纳米管器件等,虽然这些内容可能还处于研究阶段,但作者的讲解清晰地勾勒出了未来VLSI技术发展的可能方向。此外,书中对先进封装技术和三维集成电路的讨论,也让我看到了除了器件本身之外,如何通过创新的封装方式来提升整体性能和功能。这本书让我认识到,VLSI技术的发展是一个不断突破极限、不断追求更高性能、更低功耗的过程,而它提供的知识,正是引领我们走向这个未来的基石。
评分《Fundamentals of Modern VLSI Devices》在内容组织和逻辑结构上,给我留下了极深的印象。它以一种非常系统的方式,循序渐进地带领读者进入VLSI器件的微观世界。从最基础的半导体物理原理,到PN结,再到MOSFET,以及更先进的FinFET和GAAFET,每个章节都建立在前一章节的基础上,确保了学习的连贯性。我特别喜欢书中在讲解每个器件时,都会先介绍其基本结构和工作原理,然后深入分析其电学特性,最后再讨论其在实际应用中的优缺点和面临的挑战。这种“由表及里,再由里及表”的讲解方式,让我能够全面地理解每个器件。而且,书中穿插了大量的概念图、原理图和实物图,这些视觉化的辅助材料,极大地增强了学习的直观性,让我不再被枯燥的文字所困扰。例如,在讲解MOSFET的漏极电流和栅极电压的关系时,书中提供了非常清晰的I-V曲线图,以及不同栅极电压下沟道电场分布的示意图,让我能够直观地看到电压变化是如何影响电流的。这本书的结构设计,充分考虑了读者的认知过程,让复杂的技术知识变得易于接受和消化。
评分《Fundamentals of Modern VLSI Devices》不仅仅是一本技术书籍,更是一本关于解决问题的方法论的指南。作者在介绍每一个器件或每一个技术挑战时,都展现了系统性的思考方式。例如,在讨论MOSFET的短沟道效应时,他并没有简单地罗列问题,而是先分析了短沟道效应产生的根本原因(栅极对沟道的控制减弱),然后深入探讨了不同程度的短沟道效应(如阈值电压降低、亚阈值摆幅减小等)如何影响器件性能,并最终介绍了各种解决方案,例如缩短沟道长度、改变栅极结构(如FinFET)、引入掺杂调制等。这种“问题-分析-解决方案”的模式,在书中贯穿始终,不仅让我学会了理解和分析VLSI器件中遇到的问题,更重要的是,它教会了我如何去系统性地思考,如何去寻找创新的解决方案。书中关于器件的噪声分析和抑制方法,也体现了这种解决问题的思路。它让我意识到,在VLSI领域,遇到的问题往往是多方面因素综合作用的结果,需要我们运用跨学科的知识和严谨的逻辑去解决。
评分这本书的深度和广度,确实超出了我的预期。在对MOSFET有了初步了解之后,作者并没有止步不前,而是进一步深入探讨了各种先进的VLSI器件结构,比如FinFET(鳍式场效应晶体管)、GAAFET(栅极 all-around 场效应晶体管)等等。这些新型器件的设计理念和工作原理,在书中得到了非常详尽的阐述。作者并没有简单地罗列这些器件的结构图,而是深入分析了它们在提升器件性能、降低功耗、克服短沟道效应等方面所做的改进。特别是对于FinFET的讲解,让我对三维栅极结构如何有效地控制沟道电流有了更深刻的认识。书中还详细介绍了这些先进器件的制造工艺和挑战,例如三维结构的加工精度要求、材料的选择等等,这些内容对于理解现代半导体工艺的复杂性非常有帮助。另外,作者在讲解CMOS(互补金属氧化物半导体)电路的设计原理时,也显得格外用心。他并没有直接跳到复杂的电路分析,而是先从最基本的逻辑门开始,一步步构建起更复杂的电路模块,并解释了CMOS电路在功耗、速度和集成度方面的优势。我尤其欣赏书中关于器件模型和参数提取的部分,虽然这部分内容稍微有些偏向理论,但作者的讲解清晰明了,并且提供了相关的数学推导,这让我能够理解这些模型是如何被建立起来的,以及它们在电路仿真和设计中的重要作用。这本书不仅仅是关于“器件”本身,更是关于“如何利用这些器件构建出功能强大的电子系统”的启蒙。
评分这本书的写作风格非常独特,它不像是一本冷冰冰的学术专著,更像是一位经验丰富的导师在循循善诱。作者在解释一些复杂的物理概念时,总是能找到恰当的类比,让原本晦涩难懂的原理变得生动有趣。比如,在讲解半导体材料中的载流子输运时,作者将电子和空穴比作在人群中穿梭的人们,而电阻和电场则像是拥挤的街道和引导人流的方向。这种形象的比喻,极大地降低了学习门槛,让我能够更轻松地理解那些抽象的物理过程。而且,书中穿插了大量的历史故事和技术发展的小插曲,例如晶体管的发明过程,集成电路的早期发展等等,这些故事的引入,让我在学习技术的同时,也能感受到科技进步的魅力和人类智慧的结晶。我尤其喜欢书中关于材料科学和工艺技术的章节,作者在介绍硅、锗、III-V族化合物半导体等材料的特性时,并没有局限于理论描述,而是结合了它们在实际应用中的优缺点,以及在不同器件设计中的考量。他对纳米尺度下量子效应的讲解,也做得非常到位,让我对未来更小尺寸的器件发展有了更清晰的预判。这本书不仅仅是技术手册,更是一部关于半导体技术发展史的生动画卷,它让我看到了技术的演进,也感受到了科学家们探索未知的热情。
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