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出版者:

作者:Roth, J. Reece

出品人:

页数:660

译者:

出版时间:2001-8

价格:$ 92.60

装帧:

isbn号码:9780750305457

丛书系列:

图书标签:

• Plasma Engineering
• Industrial Plasma
• Plasma Processing
• Surface Treatment
• Materials Science
• Thin Films
• Plasma Physics
• Vacuum Technology
• Manufacturing
• Engineering

精密制造与表面工程的前沿探索 《精密制造与表面工程的前沿探索》 本书全面、深入地探讨了现代工业生产中至关重要的两大领域——精密制造技术和材料表面工程。内容涵盖了从基础理论到尖端应用的广泛知识体系，旨在为工程师、研究人员以及相关专业的学生提供一个系统且实用的参考框架。 第一部分：精密制造基础与先进工艺 第一章：现代精密制造概述 本章首先界定了精密制造的范畴及其在当代工业中的战略地位。讨论了实现高精度、高效率制造所面临的技术挑战，包括误差源分析、公差设计和质量控制体系的建立。重点阐述了从宏观到微观尺度的制造精度如何直接影响最终产品的性能和可靠性。 第二章：超精密加工技术 深入剖析了当代最具挑战性的加工领域——超精密加工。详细介绍了金刚石车削、磁流变抛光（MRF）、离子束抛光（IBSP）等非传统加工方法的原理、设备构成及适用材料。讨论了如何通过优化刀具几何形状、控制进给系统振动以及环境因素的精确调控，来实现纳米级甚至亚纳米级的表面粗糙度。此外，还探讨了光学元件和微电子器件制造中对形位公差的极限要求。 第三章：增材制造（3D打印）的工程应用 本章聚焦于增材制造（Additive Manufacturing, AM）技术在复杂结构件制造中的应用潜力。系统梳理了选择性激光熔化（SLM）、电子束熔化（EBM）以及光固化（SLA/DLP）等主流技术的工艺流程、材料特性和冶金学基础。着重分析了增材制造带来的组织结构变化、残余应力控制以及如何通过后处理（如热等静压HIP）来提升部件的机械性能和疲劳寿命，特别是在航空航天和生物医学植入物领域的应用案例。 第四章：微纳尺度制造技术 探讨了在微米和纳米尺度上构建功能性结构的技术路径。内容涵盖了光刻、电子束刻蚀（EBL）和聚焦离子束（FIB）等关键技术。详细讨论了微机电系统（MEMS）和纳米机电系统（NEMS）的设计、制造和封装技术，包括硅基微加工技术和软光刻技术在传感器和微流控器件制造中的应用。 第二部分：材料表面工程的深度解析 第五章：材料表面性能与失效机制 本章从材料科学的角度审视了表面对整体性能的关键影响。分析了摩擦磨损、腐蚀、疲劳和氧化等主要的表面失效模式。介绍了表面能、润湿性、界面结合力等基本概念，为后续的表面改性技术提供理论基础。 第六章：薄膜沉积技术原理与实践 这是本书的核心章节之一。详细阐述了各种物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）技术。 PVD 技术： 深入探讨了磁控溅射（Magnetron Sputtering）的工作机制，包括靶材的溅射产额、等离子体鞘层特性。分析了反应性溅射在制备氮化物和氧化物薄膜中的优势。对热蒸发和电子束蒸发在制备高纯度、高致密性膜层方面的应用进行了比较。 CVD 技术： 阐述了低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的热力学与动力学过程。重点讨论了薄膜的生长速率、厚度均匀性、晶粒取向控制以及如何通过调整工艺参数（温度、压力、气体流量比）来调控薄膜的物理化学性质，如硬度、电阻率和光学透过率。 第七章：表面改性与热处理技术 本章关注于不涉及沉积过程的表面强化和改性方法。系统介绍了渗碳、渗氮、碳氮共渗等热化学扩散工艺，解释了这些工艺如何通过改变表面亚表层化学成分来提高耐磨性。详细分析了激光熔覆（Laser Cladding）技术在修复和功能化复杂合金表面方面的应用，包括热影响区（HAZ）的控制和相变机制。 第八章：先进表面涂层的功能化设计 探讨了如何根据具体应用需求，设计具有特定功能的表面涂层。包括： 耐磨涂层： 如TiAlN, CrN 等在切削工具和模具上的应用，以及多层和梯度功能涂层的设计策略。 功能性涂层： 如低摩擦系数（DLC 涂层）、自修复涂层、以及具有特定光学或电学特性的介电/导电薄膜。 生物相容性涂层： 针对医疗器械，如何通过表面改性实现抗微生物或骨整合功能。 第三部分：质量表征与工业集成 第九章：表面与界面性能的表征技术 详细介绍了评价表面特性所需的关键分析工具： 形貌与粗糙度： 接触式（触针式）和非接触式（光学干涉仪、原子力显微镜 AFM）的测量方法及其在评估表面质量中的作用。 结构与成分分析： X射线衍射（XRD）用于晶体结构分析，扫描电子显微镜（SEM）和透射电子显微镜（TEM）用于微观形貌和界面分析。 化学态分析： X射线光电子能谱（XPS）和俄歇电子能谱（AES）在确定薄膜的化学组成和价态方面的应用。 第十章：过程控制与工业物联网（IIoT）集成 展望了先进制造和表面工程向数字化转型的趋势。讨论了如何利用实时传感器数据和在线监测技术，对PVD/CVD 反应过程进行闭环控制，以确保批次间的一致性和可追溯性。介绍了利用大数据分析和机器学习模型来优化工艺参数，实现制造过程的预测性维护和质量预测。 结论：未来发展方向 总结了精密制造和表面工程领域当前的瓶颈与未来的研究热点，如极端环境下的材料设计、超材料表面的构建以及可持续制造过程的开发。 本书结构严谨，理论与实践紧密结合，图表丰富，旨在帮助读者深入理解现代高端制造的核心技术，并为解决实际工程问题提供坚实的理论支撑。

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天啊，拿到这本《Industrial Plasma Engineering》的时候，我简直不敢相信我的眼睛！封面设计就充满了科技感和厚重感，那种暗沉的金属色调和简约的字体，瞬间就勾起了我对工业等离子体世界的无限遐想。我一直对那些在幕后默默支持我们现代科技发展的“幕后英雄”充满好奇，而等离子体，无疑就是其中最神秘也最强大的力量之一。这本书的名字本身就透露着一种专业和深度，让我立刻意识到，这绝对不是一本泛泛而谈的科普读物，而是一本真正深入到工业应用层面的技术手册。我甚至在拿到书的那一刻，就迫不及待地翻开了目录，想要一窥究竟。那一刻，我感觉自己仿佛站在了一个巨大的未知领域边缘，而这本书，就是通往那个领域的地图和指南。我对于等离子体在半导体制造、材料表面处理、环保技术等方面的应用一直有着浓厚的兴趣，所以这本书的内容对我来说，简直就是一座宝藏。我期待它能详细解释等离子体是如何在这些关键领域发挥作用的，那些复杂的物理化学过程，那些精密的工程技术，我都想一一了解。我甚至在想，这本书是否会包含一些案例研究，让我看到等离子体技术在现实工业生产中是如何被成功应用的，那些成功的经验和遇到的挑战，都会是我学习的宝贵财富。我最希望的是，这本书能够用一种既严谨又不失可读性的方式来呈现这些内容，让像我这样对等离子体有初步了解但不够深入的读者，也能轻松地理解其中的奥秘，并从中获得启发。我非常期待这本书能够带领我走进一个全新的知识领域，为我的学习和工作带来新的视角和思路。

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拿到《Industrial Plasma Engineering》这本书的那一刻，我就知道这将是一次不同寻常的学习之旅。我一直对那些能够悄无声息地改变世界，却又如此强大的技术充满敬畏，而工业等离子体，恰恰是其中之一。这本书的叙述方式非常独特，它并没有采用枯燥的学术论文式的语言，而是用一种更加生动、更具启发性的方式来讲解复杂的概念。我尤其欣赏书中关于等离子体在环保领域的应用。利用等离子体技术来处理工业废气、废水，降解有毒有害物质，这不仅具有重要的经济价值，更具有深刻的社会意义。书中对这些应用案例的详细介绍，让我看到了等离子体技术在可持续发展中的巨大潜力。我甚至在思考，如何将这些知识转化为实际的解决方案，为解决当前的环境问题贡献一份力量。这本书不仅仅是知识的传递，更是一种观念的革新，它让我对工业等离子体的认识，上升到了一个全新的高度。

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当我翻阅《Industrial Plasma Engineering》这本书时，我的脑海中立刻浮现出一幅幅工业生产的宏伟图景。我一直对那些能够精确控制物质微观结构的先进技术着迷，而等离子体技术正是其中的佼佼者。这本书的深度和广度都令人惊叹，它不仅仅是关于等离子体本身，更是关于如何将等离子体技术有效地应用于工业生产中的方方面面。我尤其欣赏书中关于等离子体反应器设计和优化的部分。一个好的反应器设计，是实现高效、稳定、均匀等离子体工艺的关键。书中对不同类型反应器（如平行板电容器式、电感耦合等离子体（ICP）、容性耦合等离子体（CCP）、微波等离子体等）的结构、工作原理、优缺点以及适用范围进行了详尽的分析。这让我明白，在实际的工业应用中，不仅仅需要理解等离子体的基本原理，更需要具备扎实的工程设计能力，才能将其转化为实际的生产力。我甚至开始在思考，如何将书中的设计理念和优化方法，运用到我目前的科研项目中，以期获得更好的实验效果。这本书让我看到了，等离子体工程不仅仅是一门科学，更是一门艺术，一门需要理论与实践紧密结合的工程艺术。

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当我翻开《Industrial Plasma Engineering》这本书时，我立刻被它所呈现的严谨与深度所吸引。我一直对那些能够改变物质本质、实现精密加工的尖端技术抱有浓厚的兴趣，而等离子体技术无疑是其中最具代表性的一类。这本书的章节设置非常合理，从基础的等离子体概念，到各种工业应用，再到具体的工程实现，都讲解得非常到位。我尤其被书中关于等离子体与材料相互作用的章节所吸引。它不仅仅停留在表面的描述，而是深入剖析了等离子体中的活性粒子（如自由基、离子、电子、激发态中性粒子等）如何与材料表面发生物理化学反应，从而实现刻蚀、沉积、掺杂、改性等多种功能。书中对这些反应机理的阐述，既有理论的高度，又不乏工程的实用性，让我能够清晰地理解等离子体技术之所以能够发挥作用的根本原因。我甚至在阅读过程中，多次停下来思考，如果将其中的某些技术应用到我所在的行业，是否能够带来颠覆性的变革。这本书让我看到了等离子体技术在半导体制造、表面处理、生物医学、航空航天等领域的巨大潜力，也让我对未来的科技发展充满了期待。我迫不及待地想将书中的知识应用到实际工作中，去探索更多的可能性。

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《Industrial Plasma Engineering》这本书，对我来说，简直是一场知识的盛宴，充满了令人惊喜的发现。我一直对工业应用中的“黑科技”颇感兴趣，而等离子体技术无疑就是其中翘楚。这本书并没有让我失望，它以一种极其专业和系统的方式，将工业等离子体的各个方面展现在我面前。我尤其欣赏它在阐述等离子体诊断技术方面的深度。了解等离子体的状态，例如电子温度、密度、反应活性物种的浓度，是实现精确工艺控制的关键。这本书详细介绍了各种诊断方法，包括光学发射光谱（OES）、朗缪尔探针、质谱等，并解释了它们的工作原理和适用范围。这让我明白，原来实现如此精密的工业应用，背后有着如此严谨的科学测量和分析作为支撑。此外，书中关于等离子体在环境保护领域的应用也让我耳目一新。例如，利用等离子体降解有害气体、处理工业废水等，这些都是非常有意义的研究方向，而这本书深入探讨了其背后的机理和工程挑战。我甚至开始思考，如何将这些知识应用到我目前的研究项目中，也许能找到新的突破口。这本书不仅仅是理论知识的罗列，它更像是一个经验的集合，是无数工程师和科学家智慧的结晶。它让我对工业等离子体的理解，从一个模糊的概念，变成了一个清晰、立体、并且充满活力的工程学科。

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读完《Industrial Plasma Engineering》之后，我只能说，这简直是一次思维的深度洗礼！我一直认为，工业等离子体只是一个抽象的概念，是实验室里才能见到的神奇现象。但这本书彻底颠覆了我的认知。它从最基础的等离子体物理学原理开始，循序渐进地讲解了各种类型的等离子体产生机制，以及它们在不同工业场景下的具体应用。我特别喜欢它在描述等离子体产生过程时，那种细致入微的解析，比如气体放电的类型，各种激励源（微波、射频、直流等）的特点，以及这些参数如何影响等离子体的性质。让我印象深刻的是，书中关于等离子体与物质相互作用的部分，它详细阐述了等离子体如何实现刻蚀、沉积、表面改性等功能。那些复杂的化学反应路径，那些微观粒子是如何影响宏观材料性能的，这本书都给出了清晰的解释。我甚至能够想象到，工程师们是如何通过精确控制这些参数，来达到特定的工艺要求的。这本书不仅仅是理论的堆砌，它更强调了工程实现的细节。比如，它讨论了等离子体反应器的设计、等离子体源的选择、工艺参数的优化，以及如何保证工艺的稳定性和可重复性。这些内容对于希望将等离子体技术应用于实际生产的工程师来说，简直是无价之宝。我甚至觉得，这本书应该放在每个从事材料科学、微电子、表面工程等领域的实验室和车间里。它让我看到了一个充满无限可能性的技术领域，也让我对未来的工业发展有了更深的憧憬。

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《Industrial Plasma Engineering》这本书，对我而言，绝对是一次关于工业等离子体世界的全面且深入的探索之旅。我一直认为，等离子体作为物质的第四态，在工业生产中扮演着至关重要的角色，但其具体的应用和实现原理，我却知之甚少。这本书的出现，恰好填补了我在这方面的知识空白。它从最基础的等离子体物理学和化学原理讲起，逐步深入到各种工业等离子体的产生方式、特性以及在不同领域的应用。我特别喜欢书中关于低压等离子体和大气压等离子体的对比分析。低压等离子体在半导体制造中扮演着核心角色，而大气压等离子体则在表面处理、医疗杀菌等领域展现出巨大的潜力。书中对这两种等离子体在产生机理、特性以及应用上的区别和联系的详细阐述，让我对等离子体技术有了更全面的认识。我甚至可以想象到，不同类型的等离子体，就像是不同的“工具”，工程师们会根据具体的需求，选择最合适的“工具”来完成特定的任务。这本书的内容非常扎实，充满了前所未有的洞察力，让我对这个复杂而迷人的技术领域充满了敬畏。

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《Industrial Plasma Engineering》这本书，让我对工业等离子体这个领域有了前所未有的深刻理解。我一直认为，科技的进步离不开那些默默无闻、却又至关重要的技术支撑，而等离子体，正是其中不可或缺的一环。这本书以一种极为系统和专业的方式，深入浅出地剖析了等离子体的产生机制、特性以及在各种工业场景下的应用。我特别被书中关于等离子体诊断技术的部分所吸引。了解等离子体的微观特性，如电子温度、离子密度、反应活性物种的浓度等，是实现精确工艺控制的基础。书中对各种诊断技术（如Langmuir探针、OES、质谱等）的详细介绍，以及它们在实际应用中的优缺点分析，让我明白了为何等离子体工艺能够如此精确和高效。我甚至开始构思，如何将这些诊断技术应用到我目前的实验研究中，以期更深入地理解等离子体与材料的相互作用。这本书不仅为我提供了宝贵的理论知识，更重要的是，它激发了我对等离子体工程实践的浓厚兴趣，让我看到了技术创新的无限可能。

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《Industrial Plasma Engineering》这本书，简直是一本工业等离子体领域的“百科全书”！我一直对那些隐藏在现代科技背后，却又至关重要的技术充满好奇，而等离子体无疑就是其中之一。这本书的内容之丰富、之详尽，让我感到非常震撼。它从等离子体的基本理论出发，深入探讨了各种工业等离子体的产生、特性、诊断以及在众多领域的应用。我特别喜欢书中关于等离子体在半导体制造中的应用章节。从刻蚀、薄膜沉积到表面清洁，等离子体技术在微电子产业中扮演着不可或缺的角色。书中对这些工艺的详细解释，包括具体的反应机理、工艺参数控制以及可能遇到的挑战，让我对半导体制造过程有了前所未有的清晰认识。我甚至能够想象出，工程师们是如何在洁净室中，通过精确控制等离子体参数，来制造出那些精密的芯片。这本书不仅仅是知识的传递，更是一种思维的启发，它让我看到了等离子体技术在推动科技进步中所发挥的巨大作用，也让我对未来的工业发展充满了无限的遐想。

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我不得不说，《Industrial Plasma Engineering》这本书，给我带来了前所未有的知识冲击和学习动力。我一直对能够改变物质性质、实现精密加工的先进技术怀有极大的兴趣，而等离子体技术，正是这其中的佼佼者。这本书的内容深度和广度都令我印象深刻，它不仅仅停留在等离子体理论的层面，更将目光聚焦于其在实际工业生产中的应用。我尤其被书中关于等离子体在材料表面处理方面的章节所吸引。它详细阐述了等离子体如何通过物理和化学的协同作用，来改变材料表面的粗糙度、润湿性、硬度、耐腐蚀性等性能。书中对这些工艺过程的深入解析，让我明白了为何等离子体技术在涂层、粘接、生物相容性等领域如此受欢迎。我甚至开始在思考，如何将书中的这些技术应用到我目前的材料研究中，以期实现对材料表面性能的定向设计。这本书不仅为我提供了丰富的理论知识，更重要的是，它激发了我对等离子体工程应用实践的浓厚兴趣，让我看到了无限的可能性。

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