纳米材料的X射线分析

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页数:291
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出版时间:2010-6
价格:49.00元
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isbn号码:9787122076816
丛书系列:
图书标签:
  • 纳米材料
  • X射线分析
  • 材料科学
  • 纳米技术
  • X射线衍射
  • X射线光谱
  • 表征技术
  • 材料分析
  • 结构表征
  • 纳米结构
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具体描述

《纳米材料的X射线分析》是介绍用X射线激发样品,由于入射线与材料中原子的交互作用,从而发出各种各样的信号,通过探测器接收处理这些信号从而获得有关纳米材料结构、成分、原子价态等信息的专著。考虑到与一般材料相比纳米材料和介孔材料的特殊性,《纳米材料的X射线分析》主要包括晶体学基础、X射线衍射原理、实验方法、物相定性定量分析、纳米材料微结构的表征、非晶局域结构、小角散射、原子价态的X射线分析以及纳米薄膜、介孔材料的X射线表征等内容。

《纳米材料的X射线分析》可供从事纳米材料研制、生产和应用的研究人员和工程技术人员,以及高等院校相关专业的教师、学生阅读,也可供从事X射线衍射和散射等分析的专业技术人员参阅。

好的,这是一本关于材料科学中经典分析技术的书籍简介,内容涵盖了理论基础、实验方法、数据处理以及应用案例,旨在为读者提供一个全面而深入的视角,同时完全不涉及“纳米材料的X射线分析”这一特定主题。 --- 《经典晶体结构与界面表征:衍射、光谱与微观形貌学导论》 导言:物质世界的结构密码 人类对物质本质的探求从未停歇。从宏观尺度的直观感知到微观尺度的精确描摹,材料科学的进步始终依赖于对原子和分子排布规律的深刻理解。本书《经典晶体结构与界面表征:衍射、光谱与微观形貌学导论》并非聚焦于新兴的纳米尺度现象,而是致力于系统梳理和深入剖析那些支撑现代材料科学大厦的经典、成熟且基础性的结构与成分分析技术。我们相信,对基础原理的扎实掌握,是驾驭任何复杂前沿研究的先决条件。 本书的结构设计遵循了从宏观到微观、从结构到成分、从静态到动态的逻辑顺序,旨在为本科高年级学生、研究生初学者以及希望系统回顾经典表征手段的科研人员,构建一个清晰、完整且实用的知识图谱。 --- 第一部分:晶体学基础与宏观结构判定 本部分奠定了理解所有衍射技术的理论基石,并着重讲解了宏观尺度上材料的晶体结构信息获取。 第一章:晶体学的基本概念与对称性 本章首先回顾了固体物理中晶体结构的定义、晶胞、晶面指标(密勒指数)的意义及其几何推导。重点阐述了布拉维点阵的分类、晶体结构的平移对称性与点群对称性。特别强调了群论在描述晶体对称操作中的重要性,如何利用对称性来简化理论计算和预测晶体学性质(如弹性、光学活性)。 第二章:X射线衍射(XRD)的经典应用与原理 本章深入探讨了X射线衍射技术在确定大尺寸或块状晶体结构中的核心地位。内容包括:布拉格定律的精确数学推导、劳厄方程的意义,以及粉末衍射(Powder Diffraction)的几何学原理。详细介绍了衍射峰的定位、积分强度测量,以及如何利用这些信息来确定晶格常数、计算晶胞体积和空间群的初步判定。此外,还涵盖了衍射图谱的背景校正、Kα1/Kα2双峰分离技术,以及经典 Rietveld 精修方法在解析复杂或混合物晶体结构中的应用流程。本章的案例聚焦于常见金属合金、陶瓷和矿物相的鉴定与定量分析。 第三章:宏观形貌与内部缺陷的初步探测 本章转向对材料表面和内部形貌的传统观测手段。详细阐述了光学显微镜(OM)的分辨率限制、衬度形成机制(明场、暗场、偏光光照明),以及在金相分析中常用的腐蚀技术。同时,介绍了用于粗略评估材料晶粒尺寸和微观不均匀性的方法,如截线法和面积统计法,这些方法是后续高分辨成像技术的基础。 --- 第二部分:微观结构成像与界面分析 本部分将视角从晶面转移到原子尺度的形貌和化学态分析,重点介绍高分辨率透射电子显微镜(TEM)和相关的光谱辅助技术。 第四章:透射电子显微镜(TEM)的成像原理与操作 本章详尽解析了TEM的工作原理,包括电子束的产生、加速、聚焦、成像和物镜的放大机制。深入讨论了电子束与物质的相互作用,特别是弹性散射和非弹性散射。重点区分了明场像(BF)、暗场像(DF)和高分辨像(HRTEM)的衬度来源。在HRTEM部分,详细解释了晶格像的形成、像对比度的周期性与晶带轴的关系,以及如何通过傅里叶变换(FFT)从HRTEM图像中重构晶格信息,用以精确测量晶格间距。 第五章:电子衍射(SAED)在微区结构确证中的作用 作为TEM的一部分,本章专门讨论了选区电子衍射(SAED)技术。解释了衍射斑点的形成与晶体取向的关系,如何利用衍射图案确定单晶的晶带轴,以及如何通过斑点排列判断薄膜材料(如外延层)的晶体质量和取向关系。本章还包括了对环状衍射图谱的解读,这对于多晶或非晶材料的微区分析至关重要。 第六章:能谱学(EDS/EELS)与化学成分的界面定位 本章聚焦于电子显微镜中的辅助分析技术——能量色散X射线谱(EDS)和电子能量损失谱(EELS)。详述了EDS如何通过探测特征X射线来确定元素种类和相对含量,重点分析了谱峰的归属、峰形对元素价态的敏感性,以及定量分析中的ZAF校正方法。EELS部分则着重介绍其在高能区对轻元素(如C, N, O)的优越性,以及如何利用吸收边精细结构(ELNES)来推断元素的化学键合环境和氧化态。 --- 第三部分:光谱学方法与化学键态分析 本部分探讨了利用光与物质相互作用获取化学结构信息的经典光谱技术。 第七章:傅里叶变换红外光谱(FTIR)的分子振动分析 本章深入介绍FTIR的基本原理,包括红外辐射与分子振动能级的匹配、吸收系数与官能团强度的关系。详细分类和解析了有机物、无机物中常见官能团(如C=O, O-H, C-H, Si-O等)的特征吸收峰位置和形状,并讨论了固体样品制备(如KBr压片法、衰减全反射ATR法)对谱图的影响。本章提供了一个系统的“指纹区”解析指南。 第八章:拉曼散射光谱及其在晶格振动与应力分析中的应用 拉曼光谱作为一种互补的光谱技术,本章详细阐述了其瑞利散射与拉曼散射的机制差异。重点分析了拉曼位移与材料晶格振动模式(声子)的关联,尤其在分析无机物、共价键合材料(如碳材料的D峰和G峰分析)中的强大能力。同时,介绍了如何利用拉曼峰的频移和半峰宽变化来评估材料内部的残余应力和晶化程度。 第九章:X射线光电子能谱(XPS)的表面化学态解析 XPS是确定材料表面(数纳米深度)元素组成和化学价态的黄金标准。本章详述了光电效应的物理基础、对光电子能量的测量以及俄歇电子的产生机制。核心内容在于谱峰的精确拟合与校正,包括:菲尔米能级的确定、化学位移对氧化态的敏感性分析,以及如何利用XPS数据区分化合物的表面污染和目标化学态信息。 --- 结论:表征方法的整合与未来展望 全书最后一部分强调了单一技术分析的局限性,并系统性地指导读者如何根据研究目标,合理、高效地整合和交叉验证上述所学的衍射、成像和光谱技术,从而构建一个完整、可靠的材料结构与性能模型。本书旨在培养读者形成批判性的分析思维,确保所获取的结构信息是真实且具有物理意义的。 面向读者: 本科高年级及研究生,材料科学、化学、物理学及相关工程领域的研究人员。

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