Solid State Electronic Devices, 4th Edition, pb, 1997

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出版者:Prentice Hall
作者:Ben G. Streetman
出品人:
页数:0
译者:
出版时间:1997
价格:0
装帧:Paperback
isbn号码:9788120309838
丛书系列:
图书标签:
  • Solid State
  • Electronic Devices
  • Physics
  • Semiconductor
  • Transistor
  • Diode
  • 4th Edition
  • 1997
  • Textbook
  • Engineering
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具体描述

半导体器件的基石与未来:一本超越“固态电子器件”的深度导览 (本书内容不涉及《固态电子器件,第四版,平装,1997》中的特定章节或具体器件分析,而是聚焦于半导体技术在21世纪的演进、前沿应用及其背后的物理学原理的深化。) --- 第一部分:后摩尔时代的物理学与材料科学基础重塑 本书着眼于当前半导体技术所面临的结构性挑战——摩尔定律的物理极限,以及由此催生的材料科学与器件结构范式转变。我们不再仅仅停留在对经典PN结、双极型晶体管(BJT)和场效应晶体管(FET)的稳态分析,而是深入探讨如何利用量子效应和新型材料来维持甚至超越现有器件的性能指标。 1. 挑战极限的量子输运理论: 传统器件分析依赖于漂移-扩散模型,但在纳米尺度下,载流子行为表现出显著的量子特性。本部分详述了非平衡态量子输运理论的最新进展。重点讨论了弹道输运(Ballistic Transport)现象,以及如何通过精确控制材料界面和尺寸来最小化散射,从而提高器件的开关速度和效率。我们引入了波函数重叠模型,用以描述极薄沟道材料中电子的局域化和隧穿效应,这对于理解新型超薄结型晶体管(FinFETs的演化版本)至关重要。同时,对随机缺陷对输运性能的统计学影响进行了深入的蒙特卡洛模拟分析。 2. 先进半导体材料体系的崛起: 硅基技术已接近物理极限,下一代器件迫切需要替代材料。本书系统梳理了第三代半导体(III-V族化合物半导体)在高频、高功率应用中的最新进展,特别是关于氮化镓(GaN)异质结功率器件的可靠性与热管理问题。 更具颠覆性的是,我们对二维(2D)材料——如石墨烯、二硫化钼(MoS₂)和黑磷——在构建原子级厚度晶体管中的潜力进行了全面评估。重点分析了这些材料的狄拉克锥或能带结构如何影响载流子迁移率,以及如何解决二维材料与传统氧化物(如HfO₂)的界面钝化难题,这是实现低功耗逻辑开关的关键瓶颈。 3. 拓扑绝缘体与自旋电子学: 本书将拓扑物理概念引入器件设计。拓扑绝缘体因其表面态具有优异的抗散射特性,被视为构建超低功耗信息传输通道的理想候选者。我们详细探讨了自旋-轨道耦合在驱动拓扑相变中的作用,以及如何利用这些材料实现自旋霍尔效应驱动的器件结构。与传统电荷输运不同,自旋电子学(Spintronics)致力于信息以自旋角动量而非电荷形式存储和处理,本书探讨了磁隧道结(MTJ)在MRAM(磁阻随机存取存储器)中实现更高密度和非易失性的最新结构设计。 --- 第二部分:存储技术的新前沿与器件异构集成 存储技术的革新是支撑大数据和人工智能飞速发展的核心驱动力。本书将重点放在超越传统DRAM和SRAM的新型非易失性存储器(NVM)及其对计算架构的深远影响。 1. 相变存储器(PCM)与忆阻器(Memristor)的器件物理: 相变存储器(PCM)依赖于硫族半导体材料(如GST合金)在结晶态和非晶态之间的快速转变。我们深入分析了激光辅助和电脉冲辅助相变动力学,特别是如何控制SET/RESET循环中的热梯度,以优化存储单元的耐久性和读写速度。 忆阻器作为“第四种基本电路元件”,其电阻状态依赖于流过它的历史电荷量。本书详细探讨了基于阻变效应(RRAM)的忆阻器,包括其开关机制(如氧空位迁移、薄膜界面重构)和漂移-运动-噪声模型。重点在于如何将忆阻器用于神经形态计算,模拟生物突触的可塑性,实现内存计算(In-Memory Computing)架构。 2. 器件异构集成与三维封装: 随着单片集成密度的饱和,异构集成(Heterogeneous Integration)成为提高系统性能的主流方向。本书阐述了芯片堆叠(Chip Stacking)技术,如混合键合(Hybrid Bonding)和超细间距倒装芯片(Ultra-fine Pitch Flip Chip)。关键在于如何解决不同材料(如Si CMOS、GaN HEMT、光子器件)之间热膨胀系数失配引发的应力问题,并设计出高效的TSV(硅通孔)结构以最小化信号延迟和功耗。 3. 光电子与光电集成电路(PIC): 为了应对数据中心和高速通信对带宽的巨大需求,片上光互连(On-Chip Interconnect)的地位日益重要。本书探讨了硅光子学(Silicon Photonics)的最新进展,特别是如何利用SOI(绝缘体上硅)平台高效集成调制器(如马赫-曾德尔干涉仪)、光栅耦合器和光电探测器。分析了III-V族材料(如InP)与硅晶圆的异质集成技术,以实现在硅芯片上直接产生高质量的激光源,这是构建全集成光电系统的核心挑战。 --- 第三部分:面向未来计算的器件范式创新 本书的最后部分将目光投向远超传统冯·诺依曼架构的未来计算模式,这些模式对半导体器件提出了全新的要求。 1. 量子比特的物理实现与退相干控制: 虽然量子计算的软件和算法研究蓬勃发展,但其物理载体——量子比特(Qubit)的可靠性仍是瓶颈。本书深入对比了超导电路量子比特(Transmons)的微波控制技术与半导体量子点(Quantum Dots)的单电子操控技术。重点分析了如何通过精密的材料纯度控制和杂质工程来延长量子比特的退相干时间(T1和T2),以及如何利用耦合阵列实现多比特操作的误差校正码。 2. 可靠性工程与器件寿命预测: 在先进工艺节点下,器件运行在高电场和高电流密度下,可靠性成为设计的核心约束。本书系统梳理了负偏压晶体管老化(NBTI)、热载流子注入(HCI)和电迁移(EM)的物理模型。更进一步,我们探讨了如何利用基于物理的加速老化模型(PBAM)和人工智能辅助的故障预测,来提前预测先进工艺器件在长期运行中的性能衰退,确保系统级的长期稳定运行。 3. 柔性电子与生物电子界面: 本书展望了半导体器件在非传统基底上的应用。柔性电子需要器件材料具备优异的机械柔韧性。我们研究了聚合物半导体的本征载流子迁移率的限制,以及如何通过超薄无定形硅或超薄金属氧化物实现高迁移率的柔性晶体管。在生物电子领域,重点分析了生物兼容性电极的设计,以及如何利用离子敏感场效应晶体管(ISFET)阵列实现对生理信号(如pH值、神经电位)的实时、高灵敏度检测,从而推动可穿戴医疗设备和神经接口技术的发展。

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用户评价

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这本书的行文风格,可以说是极其“硬核”和“工程师导向”的典范。它几乎没有多余的寒暄或宏大的叙事,直接切入核心的物理模型和数学推导。我记得翻到关于双极性晶体管(BJT)章节时,作者对于扩散电流和漂移电流的定量分析,简直可以用“冷酷无情”来形容——每一个参数的引入、每一步积分的边界条件的设定,都遵循着最严格的物理定律。我花了相当长的时间才消化完其中关于电流增益带宽积($f_T$)和早期效应(Early Effect)的详细论述。这本书的优势在于,它不只是告诉你器件“能”做什么,而是深入解释了器件“为什么”会以那样的方式工作,其内在的物理机制是什么。这种深度的解析,对于需要进行器件结构优化或者故障分析的读者来说,是无价的。它不是一本快速入门的读物,更像是一本需要反复研磨、并在实践中不断对照查阅的工具书。那种反复在理论和实际应用之间建立联系的论证过程,体现了作者深厚的工程实践经验,让读者在掌握理论的同时,也能预见到理论在实际电路设计中可能遇到的局限性。

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这本书的封面设计乍一看平平无奇,那种略显陈旧的米黄色纸张,加上深蓝色的标题字体,散发出一种时代沉淀的厚重感。我是在一个旧书店的角落里翻到它的,当时的目的只是想找一本关于半导体物理的基础参考书。打开书页,首先映入眼帘的是密密麻麻的公式和严谨的图表,每一个章节的逻辑推进都像是在搭建一座精密的数学结构。作者显然对电子器件的物理基础有着极其深刻的理解,他没有回避那些复杂的量子力学或统计物理的背景知识,而是将其作为理解PN结、晶体管工作原理的基石。尤其让我印象深刻的是关于MOSFET工作机制的阐述,从阈值电压的推导到载流子迁移率的讨论,层次分明,如同抽丝剥茧一般,将原本抽象的概念具象化了。虽然排版上对比现在那些色彩斑斓的教科书显得有些单调,但正是这种纯粹的、以内容为核心的呈现方式,让我能够完全沉浸在知识的海洋中,而不是被花哨的视觉元素分散注意力。这本书的阅读体验,更像是在跟随一位经验丰富的导师,一步步走过整个固体电子器件的理论迷宫。那种一步一个脚印的扎实感,是很多新版教材难以比拟的。

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这本书的插图和例题设计,体现了那个年代教材特有的严谨美学。图示多采用黑白线条勾勒,但每一条曲线、每一个箭头都精确地标示了物理量和方向,没有丝毫含糊不清之处。最让我受益的是书后配套的习题集。这些习题往往不是简单的代入公式,而是需要读者综合运用好几个章节的知识点才能解决的综合性问题。例如,有一个关于PN结电容与温度和偏置电压耦合关系的例题,要求解出特定温度下不同偏压下的等效电容变化率,这迫使我必须将热力学平衡态、载流子浓度分布以及结电容的定义公式完整地串联起来。完成这样的习题,带来的成就感远超于完成那些仅需代数运算的练习。它真正考验的是对物理图像的建立能力,以及在不同物理条件变化下,如何动态调整模型的能力。可以说,这本书的价值有一半体现在其精心挑选的例题和习题之中的。

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相较于如今市面上许多专注于新兴半导体材料或前沿器件的教材,这部作品的重点明显扎根于经典硅基半导体技术。阅读它,仿佛进行了一次对电子工程“本源”的深刻回顾。它对晶体管在理想化条件下的行为描述,清晰得如同教科书上的完美模型。但有趣的是,作者在描述完理想情况后,总会谨慎地引入“非理想效应”的部分,比如热效应、载流子散射机制的复杂性等。这种处理方式,在我看来恰到好处地平衡了理论的优雅与现实的粗粝。它没有过度渲染那些尚未成熟的新技术,而是确保读者对构成现代电子系统的基石——CMOS技术的基础——拥有无可动摇的认知。对于我这种已经接触了一些微电子制造流程的人来说,重温这些基础知识,帮助我更好地理解为什么某些制程节点的性能提升会如此艰难,因为根本的物理瓶颈始终存在于这些最基础的界面物理和载流子输运现象之中。这种回归根本的阅读体验,令人心安而踏实。

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从整体的阅读感受上来说,这本书给人一种“老派大师的沉稳教诲”之感。它的语言简洁有力,很少使用时髦的术语,一切都围绕着电磁学、量子力学和统计物理这些不变的基石展开。它不是一本“时效性”很强的书,因为基本的半导体物理定律是恒定的,但它绝对是一本“永恒性”的经典。当你读完后合上书本,会有一种感觉:你好像真正“掌握”了固体电子器件的思维方式,而不是仅仅“了解”了它的工作流程。它没有提供任何花哨的封装介绍或者最新的电路应用案例,这些内容你可以从其他更侧重应用的资料中获取。但要理解为什么这些封装和应用最终会表现出某种特性,你必须回到这本书所构建的坚实理论框架中去寻找答案。对我而言,它更像是一本修行手册,指导我如何透过材料的宏观表现,直抵其微观世界的本质规律。

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