具体描述
《2007中国塑料工业年鉴》由中国塑料加工工业协会主办，中国塑料加工工业协会和全国塑料加工工业信息中心承担组稿工作。《2007中国塑料工业年鉴》为第4卷，与前几卷在时间和内容上保持了连续性，全面反映了2007年中国塑料工业的发展状况。
《2007中国塑料工业年鉴》坚持为全国塑料行业服务的宗旨；努力为合成树脂、助剂、塑料机械、模具和制品生产企业沟通信息、相互了解架起桥梁；为从事和涉及塑料工业的研究、生产、销售的各界人士提供全方位的行业动态、市场和技术信息。
《2007中国塑料工业年鉴》（2005）设有专论、大事记、政策法规、全国塑料工业生产经营情况统计、进出口统计、综述、各地区塑料工业情况、主要制品行业概况、上市公司、专利技术、塑料行业《国家标准》及《行业标准》、重点企业介绍、人物风采等栏目。
现代光学与光电子技术前沿探索 第一部分：光学基础与新兴理论 本书深入剖析了现代光学领域的核心原理与最新进展，旨在为光学工程、物理学以及相关交叉学科的研究人员和高级学生提供一个全面而前沿的知识框架。 第一章：电磁波理论的再审视与推广 本章从麦克斯韦方程组的经典表述出发，系统梳理了波动光学的基础。重点探讨了在复杂介质（如超材料和拓扑绝缘体）中电磁波传播的修正理论，包括非互易性、手性光场与赝标量的引入对经典理论的突破。详细阐述了局域场增强效应的量子电动力学描述，并介绍了基于时域有限差分法（FDTD）和频域有限元法（FEM）在求解复杂边界条件下的数值模拟技术及其在微纳结构设计中的应用。 第二章：量子光学的前沿进展 量子光学部分聚焦于光与物质相互作用的微观层面。内容涵盖单光子源、量子点发光特性、腔量子电动力学（CQED）中对自发辐射的精确控制，以及基于纠缠光子对（如通过参量下转换SPDC产生的光子）的量子态制备与表征。特别辟出一节，深入讨论了拓扑光子学在构建具有鲁棒性的光子态方面的潜力，特别是零能模（Zero modes）与拓扑边界态的实现。 第三章：非线性光学在信息处理中的应用 本章系统介绍了高阶非线性光学效应，如自相位调制（SPM）、交叉相位调制（XPM）和受激拉曼散射（SRS）。重点解析了光孤子在光纤和波导中的产生、传输与稳定性控制，这对于超快光通信和高精度激光技术至关重要。此外，本章详细探讨了频率梳的产生机制及其在精密光谱学和时间计量学中的应用，包括梳的锁定与频率转换技术。 第二部分：光电子器件与集成技术 本部分关注将光学原理转化为高性能电子器件的关键技术，特别侧重于光电转换、调制与集成化发展。 第四章：半导体光电子器件的性能优化 本章深入研究了半导体激光器（DBR、VCSELs）的量子效率、阈值电流密度优化，以及DFB激光器在温度漂移下的稳定性控制。详细分析了探测器领域，包括雪崩光电二极管（APD）和超导纳米线单光子探测器（SNSPD）的工作原理、噪声特性及量子效率的极限分析。对异质结材料体系（如InP、GaAsN等）在特定波段（如短波红外波段）的应用挑战进行了专题讨论。 第五章：光子集成电路（PIC）的设计与制造 光子集成技术是实现光电子系统小型化和高密度集成化的核心。本章全面介绍了硅光子学（Silicon Photonics）平台，包括SOI（Silicon-On-Insulator）与SiN（Silicon Nitride）波导的损耗分析与耦合机制。详细阐述了片上集成的关键元件，如马赫-曾德尔干涉仪（MZI）调制器、环形谐振腔（MRR）滤波器及其调谐机制。此外，本章还讨论了电光调制器（EOM）与光吸收调制器（OAM）的性能对比，以及高效的光电耦合技术。 第六章：新型功能材料在光电子学中的应用 本章探讨了半导体以外的新型材料对光电子器件性能的潜在提升。重点分析了二维材料（如石墨烯、过渡金属硫化物TMDCs）在超快光吸收、电光调制以及透明电极方面的应用。探讨了钙钛矿材料在光伏与光电探测领域的快速发展及其面临的长期稳定性挑战。此外，本章还介绍了基于等离激元共振（SPR）的亚波长光场调控技术。 第三部分：光学成像与传感 本部分关注光学系统在信息获取和环境监测中的高端应用。 第七章：先进光学成像技术 本章超越了传统的衍射极限成像。详细介绍了超分辨率显微技术，包括STED（受激发射损耗）、PALM/STORM（照片激活定位显微技术）的成像原理与实验设置。深入探讨了计算成像的最新进展，特别是基于深度学习的图像重建算法在弱光成像、散射介质成像（如层析成像）中的应用。对相位恢复技术与计算全息术进行了详尽的数学推导与实例分析。 第八章：高精度光学传感与测量 本章专注于利用光场对物理量进行高灵敏度测量的技术。内容包括光纤布拉格光栅（FBG）传感器用于结构健康监测的原理与解调技术。重点分析了激光干涉测量中的噪声源抑制，如散粒噪声和环境振动。特别介绍了量子传感领域，如基于原子钟和光晶格的精密时间同步与惯性导航技术，以及利用纠缠态光束提高传感精度（超越标准量子极限）的方案。 第九章：光学系统设计与误差分析 本章为工程师提供了系统级的优化指导。从泽尼克像差理论出发，详细解析了离轴成像系统、变焦系统的设计原则与公差分析。重点讲解了现代光学传递函数（OTF）的计算方法，以及如何通过优化非球面元件来校正高阶像差。此外，本章还涉及了激光束质量（M²因子）的测量与控制，以及高功率激光系统中的非线性效应管理。 结论：未来趋势与挑战 本书最后总结了光电子技术领域的几个主要发展方向，包括全光网络架构、基于光子的量子计算平台、柔性光电子学，以及人工智能在光学设计与制造中的深度融合。强调了材料科学、器件工程与理论物理学跨学科研究的必要性。
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