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High Density Plasma Sources

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Popov, Oleg A. 編 作者
William Andrew Pub
譯者
1997-1 出版日期
468 頁數
$ 214.70 價格
HRD
叢書系列
9780815513773 圖書編碼

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發表於2024-11-28

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High Density Plasma Sources 在線電子書 圖書描述

This book describes the design, physics, and performance of high density plasma sources which have been extensively explored in low pressure plasma processing, such as plasma etching and planarization, plasma enhanced chemical vapor deposition of thin films, sputtered deposition of metals and dielectrics, epitaxial growth of silicon and GaAs, and many other applications. This is a comprehensive survey and a detailed description of most advanced high density plasma sources used in plasma processing. The book is a balanced presentation in that it gives both a theoretical treatment and practical applications. It should be of considerable interest to scientists and engineers working on plasma source design, and process development.

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